x熒光光譜分析儀【深圳市云帆興燁科技有限公司 :,:】
XEPOS型x熒光光譜分析儀可廣泛應(yīng)用于各種電子材料及塑料中鉛、鎘、（汞）等元素分析，檢出下限低，靈敏度高、穩(wěn)定性好，可應(yīng)對歐洲WEEE、RoHS指令。
功能
1.高信噪比： 250：1(P-P)，800：1(RMS)
SPECTRO XEPOS的高信噪比更有利于痕量樣品的測量，可以測出低至1 x 10-12mol/L的熒光素。
2. 機刻凹面衍射光柵F-2.2系列
- 源于日立優(yōu)異的衍射光柵刻制系統(tǒng)的高性能的單色器
- 機刻光柵表面存在的閃耀角可以使光柵在紫外/可見光區(qū)有更高的衍射效率，提高此區(qū)域的光能量。
- 凹面光柵同時具有分光和聚焦功能，這樣可以減少光路中的光學(xué)元件，提高整個系統(tǒng)的光能量。
3. 掃描速度快，可達(dá)60,000nm/min
4. 三維時間掃描熒光光譜追蹤監(jiān)控化學(xué)反應(yīng)過程顯示出來(新功能)
傳統(tǒng)熒光光譜儀很難實現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)監(jiān)控，在1分鐘內(nèi)發(fā)生的快速化學(xué)反應(yīng)只能采用固定波長的方法進(jìn)行監(jiān)控，但SPECTRO XEPOS超高速的掃描速度可使這種測量輕松進(jìn)行，在1秒之內(nèi)可完成整個波長范圍的測量，所以它能夠跟蹤如此快速的反應(yīng)過程。
5. 測量的濃度范圍高達(dá)6個數(shù)量級
具有自動增益轉(zhuǎn)變功能，唯有Hitachi熒光光譜儀使用的技術(shù)，使它可以使用濃度范圍高達(dá)6個數(shù)量級的數(shù)據(jù)生成校正曲線。未知樣品不需進(jìn)行任何預(yù)處理就能進(jìn)行定量分析。
6. 其他功能
● 自動預(yù)掃描功能，優(yōu)化未知樣品的測量條件。
● 比例光度光源能量監(jiān)控保證測量的穩(wěn)定性。
● 采用水平狹縫設(shè)計提高測量靈敏度，液體僅需0.6ml（采用標(biāo)準(zhǔn)10mm比色池樣品池），粉末樣品10uL（采用微量粉末夾具）就可以完成測試
● 高分辨率多級狹縫，光譜分辨率為1nm。
● 切光器控制使樣品的光氧化小。
● 磷光分析和發(fā)光分析也是標(biāo)準(zhǔn)功能。
特點：
1、預(yù)置多條工作曲線，涵蓋金屬、PE、PVC、鋁鎂、焊錫、銅合金等基體類型可滿足用戶常規(guī)測量的要求；
2、提供開放式工作曲線平臺，用戶可以自由配置工作曲線以及任意添加標(biāo)樣數(shù)據(jù)，以滿足更高測試度的要求，或適應(yīng)環(huán)保指令的后期擴展；
3、人性化的軟件界面與操作方法，使用*圖形顯示技術(shù)，既方便又直觀；結(jié)合大量操作經(jīng)驗優(yōu)化操作步驟，*方便用戶；
4、精確的數(shù)據(jù)處理方式：以基本參數(shù)法為依據(jù)精確配置的濾光片系統(tǒng)大幅提高峰背比，結(jié)合一系列*的光譜處理方法，*提高特征譜線的檢出精度，以此為依據(jù)用經(jīng)驗系數(shù)法再做進(jìn)一步校正，使測試數(shù)據(jù)達(dá)到*的精密度和準(zhǔn)確度；
5、數(shù)據(jù)管理：由數(shù)據(jù)庫支持的專業(yè)化報表生成、查詢打印、操作員分級*等功能*方便企業(yè)管理；
6、完善的安全連鎖功能：配合硬件電路的防護(hù)措施，在不安全的操作發(fā)生時自動切斷X射線確保操作員不受傷害;
7、智能化軟件保護(hù)，避免不當(dāng)操作對光譜儀的損傷，延長儀器使用壽命。
技術(shù)指標(biāo)：
1、精確度：該設(shè)備的測量精確度可達(dá)到或優(yōu)于相關(guān)元素國家分析方法標(biāo)準(zhǔn)（GB/T4734-1996、QB/T 2578-2002）中對精確度的要求。
2、分析速度：從稱樣開始，2～3小時完成8個常規(guī)項目的化學(xué)成份分析全過程。4～5小時完成所有項目的分析。
3、一次聯(lián)測樣品數(shù)：9個
成套性：
1、測定儀主機一臺（GKF－IV型）；
2、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)一套；
3、6400A火焰光度計一套
4、銀坩堝二套（30ml／套）
5、*一臺（50W）；
工作環(huán)境：
1、環(huán)境溫度：5℃～35℃，
相對濕度：≤85％
2、工作電源：220±22V，50Hz，
裝機容量：3KVA
