低溫氧化設(shè)備|UV氧化設(shè)備是分別采用低溫等離子廢氣處理技術(shù)，采用雙介質(zhì)阻擋放電形式產(chǎn)生等離子體，所產(chǎn)生等離子體的密度是其他技術(shù)產(chǎn)生等離子體密度的1500倍，用于氟利昂類、哈隆類物質(zhì)的分解處理，后延伸至工業(yè)惡臭、異味、有毒有害氣體處理。該技術(shù)節(jié)能、環(huán)保，應(yīng)用范圍廣，所有化工生產(chǎn)環(huán)節(jié)產(chǎn)生的惡臭異味幾乎都可以處理，并對二惡英有良好的分解效果。等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)已研制出標準化廢氣治理設(shè)備，利用所產(chǎn)生的高能電子、自由基等活性粒子激活、電離、裂解工業(yè)廢氣中的各組成份，使之發(fā)生分解，氧化等一些列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，再經(jīng)過多級凈化，從而消除各種污染源排放的異味、臭味污染物，使有毒有害氣體達到低毒化、無毒化，更好的是對污染物分子的高效分解且處理能耗低等特點，為工業(yè)廢氣的處理適應(yīng)了新時代的要求。

阜陽@光氧催化廢氣處理設(shè)備作用原理

傳統(tǒng)的低溫等離子體技術(shù)治理工業(yè)廢氣被替代的原因是因為其電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍，所以無法實現(xiàn)。而新技術(shù)下的光氧催化廢氣治理設(shè)備更好的處理了這一點。

下面詳細分析：

等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。（注：低溫等離子體相對于高溫等離子體而言，屬于常溫運行。）

等離子體反應(yīng)區(qū)富含*的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以分解污染物。低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體治理，效果好，運行費用低廉、無二次污染、運行穩(wěn)定、操作管理簡便、即開即用。