二級反滲透設備是一種現(xiàn)代新型的純凈水處理技術。通過反滲透元件來提高水質(zhì)的純凈度，清除水中含有的雜質(zhì)和鹽。我們?nèi)粘Ｋ嬘玫募儍羲际墙?jīng)過反滲透設備處理的，水質(zhì)清澈。

世界上早使用反滲透技術的國家是美國，發(fā)明了以動力差為動力的膜分離技術。隨著該技術的推廣，我國開始使用反滲透技術。市場上的純凈水設備都是采用的反滲透膜處理技術，并且在我國經(jīng)過了一定的改良和設計創(chuàng)新。技術已經(jīng)非常成熟。

反滲透純凈水設備中設計了一種反滲透膜。膜兩側(cè)的壓力不同，通過兩側(cè)的壓力為動力，壓迫原水通過反滲透膜，鹽的濃度低的會向濃度高的鹽方向滲透，能夠達到的平衡狀態(tài)下，就是液體的滲透壓。當含有的鹽水一側(cè)的壓力對于另一側(cè)的滲透壓力時候，就會發(fā)生反方向的流動，就產(chǎn)生了反滲透過程。

反滲透純凈水設備都是采用了這種技術，采用了自動供水和斷水的智能化控制，這就是純凈水設備。

反滲透技術因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應用。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴重的問題。

二級反滲透設備在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理系統(tǒng)，調(diào)整的運行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設備的運行水平，是否需要改進預處理系統(tǒng)較難判斷。

R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結晶析出，損壞膜原件的應有特性，在進入反滲透膜組件之前，應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽，SiO2，硫酸鹽的晶體析出.

采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除，使RO系統(tǒng)等后續(xù)設備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止其進入損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。

是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。反滲透法能適應各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術經(jīng)濟效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運行穩(wěn)定，占地面積小，操作簡便，反滲透設備在除鹽的同時，也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。

主要用途

⒈制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

⒉制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

⒊制取醫(yī)藥工業(yè)所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等；