巢湖溶氣式氣浮機(jī)山東全偉環(huán)保-山東全偉環(huán)保水處理設(shè)備有限公司
反滲透脫鹽系統(tǒng)的運(yùn)行和監(jiān)控由PLC、儀表、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)和工藝流程模擬屏執(zhí)行。系統(tǒng)運(yùn)行過(guò)程中高壓泵啟動(dòng)時(shí)，為了防止高壓水源直接沖擊膜元件，造成膜元件的破裂，高壓泵出口電動(dòng)慢開(kāi)門(mén)逐漸打開(kāi)，使膜系統(tǒng)水壓逐漸穩(wěn)定升高，同時(shí)加藥泵自動(dòng)啟動(dòng)（一級(jí)反滲透入口加還原劑和阻垢劑，二級(jí)反滲透入口加NaOH），反滲透系統(tǒng)正常運(yùn)行時(shí)，給水／ 濃水流沿著反滲透膜表面以一定的流速流動(dòng)，污染物很難沉積下來(lái)，但是如果反滲透系統(tǒng)停止運(yùn)行，這些污染物就會(huì)立即沉積在膜的表面，對(duì)膜元件造成污染。所以在反滲透系統(tǒng)停運(yùn)前設(shè)置了自動(dòng)沖洗，利用干凈水對(duì)膜元件表面進(jìn)行停運(yùn)沖洗，以防止這些污染物的沉積。一級(jí)反滲透沖洗流量為56 m3/h，二級(jí)反滲透沖洗流量為45 m3/h，沖洗時(shí)間為10 min。
（1）運(yùn)行過(guò)程中控制反滲透入口壓力為1.0 MPa，同時(shí)注意保安過(guò)濾器進(jìn)出口壓差小于0.2 MPa，若大于0.2 MPa 需要更換濾芯。同時(shí)運(yùn)行中注意控制產(chǎn)品水的壓力永遠(yuǎn)不會(huì)超過(guò)給水或濃水的壓力。
（2）為了保證高壓泵安全運(yùn)行，高壓泵運(yùn)行過(guò)程中設(shè)置了入口壓力低和出口壓力高保護(hù)，當(dāng)?shù)蛪盒盘?hào)或高壓信號(hào)觸發(fā)保持3 s 后，高壓泵自動(dòng)停止，設(shè)置值為壓力低≤0.1 MPa，壓力高≥1.8 MPa。
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（3）反滲透膜雖然能夠承受短期的氯和次氯酸根的攻擊，但若連續(xù)接觸將會(huì)破壞膜的分離能力，由于氧化性破壞引起膜性能的下降，反滲透膜入口余氯的含量一般要求控制＜0.1 mg/L，為了防止游離氯超標(biāo)，在一級(jí)反滲透入口設(shè)置了還原劑加藥管路，同時(shí)安裝了ORP 表，用于控制和調(diào)整加藥量，還原劑采用NaHSO3，藥劑質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%，通過(guò)加藥裝置控制加藥量。當(dāng)ORP 表顯示≤150 mV 時(shí)，停止加藥泵；當(dāng)150 mV＜ORP≤250 mV 時(shí)，加藥泵頻率自動(dòng)控制25 Hz；當(dāng)250 mV＜ORP＜300 mV 時(shí)，加藥泵頻率自動(dòng)調(diào)整至50 Hz；當(dāng)ORP>300 mV 時(shí)，停止運(yùn)行所有反滲透組件，以防引起膜的嚴(yán)重?fù)p壞。另外系統(tǒng)長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)運(yùn)行時(shí)，水中鈣鎂等離子會(huì)不斷析出并在反滲透膜表面附著，形成結(jié)垢堵塞膜孔，為延緩鈣鎂等離子的析出和膜面結(jié)垢，在一級(jí)反滲透入口水中投加了阻垢劑，因?yàn)闄C(jī)加池用混凝劑為聚合鋁，為了防止與聚合鋁形成不溶聚合物，阻垢劑選用與聚合鋁相兼容的藥劑，阻垢劑質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%，加藥量為2～4 mg/L。 
（4）在二級(jí)反滲透入口設(shè)置了加堿系統(tǒng)，投加的堿液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)20%的NaOH，質(zhì)量濃度過(guò)高pH 不好調(diào)節(jié)，控制二級(jí)反滲透入口pH 為8.3 左右。主要有以下兩個(gè)目的：*，由于反滲透膜對(duì)水中CO2的透過(guò)率幾乎為100%，而從碳酸的電離度與水中pH的關(guān)系中可見(jiàn)，當(dāng)pH 約為8.3 時(shí)溶液中幾乎只含有HCO3-，這樣HCO3-通過(guò)反滲透系統(tǒng)全部去除，間接實(shí)現(xiàn)了去除CO2的目的，提高反滲透的脫鹽率。第二，當(dāng)pH ＜8 時(shí)，溶解硅以硅酸的形式存在，如硅酸的濃度超過(guò)其溶解度，硅將沉積出來(lái)；當(dāng)水的pH>8時(shí)，硅的溶解度增加，此時(shí)，硅酸電離為硅酸根SiO32-，為防止硅在膜表面沉積，需保證二級(jí)反滲透進(jìn)水pH 在8.0 以上
