管式化學氣相沉積設(shè)備 CVD100產(chǎn)品概述
1、適用范圍：適合于各單位實驗室、高等院校實驗室、教學等的項目科研、產(chǎn)品中試之用。
2、產(chǎn)品優(yōu)點及特點：該設(shè)備是利用有機金屬源化學氣相沉積技術(shù)，石英管生長室清潔無污染；多路氣體控制合理；PID加熱溫度高控溫準確且均勻，高真空環(huán)境，兼具真空退火爐功能。
3、主要用途：可制備用于光電子、半導(dǎo)體、石墨烯、微波器件等高純薄膜。
管式化學氣相沉積設(shè)備 CVD100技術(shù)參數(shù)
| 型號 | CVD100 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 高純石英管 |
| 真空腔室尺寸 | Φ100×L1000mm |
| 襯底溫度 | 室溫～1000℃，可調(diào)可控 |
| 電源 | DC |
| 控制方式 | PLC控制 |
| 占地面積 | 主機L1620×W1060×H1900mm |
| 總功率 | ≥6KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢。
