熱處理廢氣凈化設(shè)備運用高能UV高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物，水和二氧化碳，再通過風(fēng)管排出。 UV光解催化氧化工藝流程 廢氣通過風(fēng)機輸送至裝置內(nèi)，在裝置產(chǎn)生的強氧化性物質(zhì)（臭氧）和紫外線及催化劑作用下，被迅速裂解，氧化，降解成低分子化合物，水和二氧化碳，降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在zui后的堿吸收化學(xué)塔中的被洗滌除去，實現(xiàn)達標(biāo)排放
熱處理廢氣凈化設(shè)備
在高壓等離子電場的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達到廢氣處理的目的。
吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達到進一步去處異味氣體的目的。控制系統(tǒng)主要用來控制系統(tǒng)開機、停運，并對系統(tǒng)運行效果進行檢測，反饋系統(tǒng)的運行狀態(tài)和技術(shù)參數(shù)，從而使設(shè)備處于佳運行狀態(tài)，實現(xiàn)無人值守。
氣體收集系統(tǒng);預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng);低溫等離子凈化系統(tǒng);深度氣體吸附催化系統(tǒng);排放系統(tǒng);控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機,本工藝有3至9個微波激發(fā)單位，根據(jù)被處理風(fēng)量的不同數(shù)量不同，微波由于它的頻率相對比較高，在納秒的時間內(nèi)有效作用于被處理空間（區(qū)域），由于微波的功率相對較小，因此在激發(fā)能力上也就是說電子的獲能躍遷能力上有限，本設(shè)計只是把微波作為初頻激發(fā)源，在處理過程中作為一種預(yù)激發(fā)能。
