廢氣處理設(shè)備低溫等離子去除污染物的基本過程
過程一:高能電子的直接轟擊
過程二:O原子或臭氧的氧化
O2+e→2O
過程三:OH自由基的氧化
H2O+e→OH+H
H2O+O→2OH
H+O2→OH+O
過程四:分子碎片+氧氣的反應(yīng)

廢氣處理設(shè)備低溫等離子設(shè)備技術(shù)特點
1.運行費用低廉,無二次污染,運行穩(wěn)定,操作管理簡便，即開即用
2.低溫等離子體密度大,達到常用等離子技術(shù)的數(shù)十倍，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用
3.技術(shù)反應(yīng)速度快,氣體通過反應(yīng)區(qū)的速度達到3-10米/秒
4.主機為成套工業(yè)廢氣處理裝置,前面配有等離子塔,能有效去除廢氣中的粉塵和水分
5.自動化程度高,設(shè)備啟動,停止十分迅速,隨用隨開,對于部分化工生產(chǎn)的不連續(xù)性,可以在生產(chǎn)時開啟,不生產(chǎn)的間隙停止運行,大量的節(jié)約生產(chǎn)成本

低溫等離子廢氣處理設(shè)備應(yīng)用范圍
該技術(shù)能夠應(yīng)用于污水處理廠,石油化工,制藥,污水處理,涂料,皮革加工,感光材料,汽車制造,食品加工廠,印染廠,垃圾處理廠,公廁,屠宰場,牲畜飼養(yǎng)場,魚類加工廠,飼料加工廠等諸多能夠產(chǎn)生惡臭異味的場所。
基本不受氣溫和污染物成分的影響，對惡臭異味的臭氣濃度有良好的分解作用，惡臭異味的去除率達80-98%，處理后的氣體臭氣濃度達到國家標準。