無掩模光刻機
美國AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國內(nèi)參考用戶較多！
產(chǎn)品優(yōu)點：
微米和亞微米光刻,小0.6微米光刻精度
紫外光直寫曝光,無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費用
靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整。
可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計。
按照客戶要求可從低端到端自由配置
使用維護簡單, 設(shè)備耗材價格低。
應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。
無掩模光刻機
曝光鏡頭
• 光源:200W汞燈.
• 光源壽命:>1000小時.
• 涵蓋了汞燈的波段，范圍寬， >510nm 下對準(zhǔn)
襯底光照波長：
365nm+/-5 nm
405 nm+/-5nm
435nm+/-5 nm
• 波段曝光模式，可以在波段350–550nm范圍內(nèi)進行單次曝光.
• 像素大小Pixel Sizes included with system
1.25微米， 4X 物鏡， (5 um 小線寬)
0.25微米， 20X 物鏡， (1 um 小線寬)
• 256級灰度識別
• 4X物鏡可以在曲面構(gòu)建1mm 深的結(jié)構(gòu)， 而不用移動鏡頭和樣品臺
• 一體化的光學(xué)過濾器可以在曝光過程中保持工作.
• 可以使用掩膜板和無掩膜兩種工作模式.
• 可以實現(xiàn)整個XY軸樣品臺移動范圍內(nèi)的大尺寸圖形曝光.
• 單一在線式相機可以觀測樣品并聚焦樣品。.
• 多像素曝光可以提供大于750000個像素處理，在一次靜態(tài)曝光中.
一體化硬件和軟件功能
• C語言基礎(chǔ)上的軟件，使用方便，修改以及和其它系統(tǒng)整合容易.
• 全自動聚焦
• 鏡頭和樣品臺在視場內(nèi)校準(zhǔn)。
• 管理員可控制使用者權(quán)限
• 程序可存儲及調(diào)用
• 全自動面與面之間的對準(zhǔn)，自動找平
• 遠程網(wǎng)絡(luò)診斷
• 微軟Windows程序的個人電腦，集成與系統(tǒng)中.
全自動樣品臺
• 適合60mm方片襯底.
• 曝光面積60mmx 60mm，在此面積內(nèi)適合所有像素尺寸.
• 線性位移平臺
• X軸和 Y軸移動
• 總移動范圍: 60mm
• 準(zhǔn)確性:+/-1微米，在每個軸的位移總長
• 重復(fù)性: +/-150nm ，每個軸
• 精度:5nm，每個軸
• Z 軸移動
• 總移動范圍:5mm
• 準(zhǔn)確性:+/- 0.5微米
• 重復(fù)性: +/-250nm
• 旋轉(zhuǎn)角度移動
• 總移動范圍: 135度
• 準(zhǔn)確性:+/-5 arcsec
• 重復(fù)性: +/-2 arc sec
• 4軸控制器，并開發(fā)數(shù)字界面.
• 通用的真空吸附樣品臺，支持方片襯底
CCD相機
• 1/2”步進掃描式CCD
• 感應(yīng)區(qū)域:6.4mmx4.8mm
• 1392x 1024像素陣列
• 像素大?。?.65微米x4.65微米
• IEEE1394 視頻輸出
• 保證*兼容NI Windows軟件
