適用于OEM應(yīng)用的功能穩(wěn)健且穩(wěn)定的光譜儀
EMBED是一種小體積的光譜儀，用于工業(yè)過程控制和OEM的光學(xué)測量系統(tǒng)。 EMBED具有的熱穩(wěn)定性和測量可靠性，因其基本電子元件的數(shù)量被減少到最小，從而使得它的體積小而且集成過程簡單。 由于其穩(wěn)健的板載電子元件，EMBED具有基本的光譜預(yù)處理和多通道功能，以及本地SPI通信支持功能，從而建立了與微控制器和工業(yè)控制系統(tǒng)的快速穩(wěn)定接口。 EMBED需要通過高級別的電氣工程進行定制，僅向OEM客戶推薦。 其設(shè)計適用于進行高規(guī)格定制和批量生產(chǎn),從而可以滿足各種應(yīng)用需求。
產(chǎn)品詳情：
- 無縫集成 —用于OEM和工業(yè)的集成應(yīng)用
- 高熱穩(wěn)定性 — 非常適用于溫度變化大和有挑戰(zhàn)性的環(huán)境
- SPI或USB通信 — 可選擇多種數(shù)據(jù)接口
規(guī)格：
工程規(guī)格 | EMBED光譜儀 |
探測器： | Sony ILX511B |
檢測器范圍： | 200-1100納米 |
焦距（輸入）： | 42毫米 |
焦距（輸出）： | 68毫米（還可提供75毫米，83毫米和90毫米） |
光柵： | 200-1100納米范圍內(nèi)多種選擇 |
入射狹縫： | 5微米，10微米，25微米，50微米，100微米200微米 |
光纖連接器： | SMA 905 |
集成時間： | 1毫秒-60秒 |
光學(xué)分辨率： | 約0.3-10.0納米（半峰寬）（取決于光柵和狹縫） |
動態(tài)范圍（典型配置）： | 1300:1（每個像素） |
信噪比： | 250:1（單次采集） |
雜散光： | 600納米時小于0.05%；435納米時小于0.10% |
電源要求： | 100毫安，3.3伏直流 |
電源電壓： | 2.63-3.3伏直流 |
模數(shù)轉(zhuǎn)換器： | 16位，3.3兆赫 |
