XD2/3型多晶X射線衍射儀用于晶體物質(zhì)結(jié)構(gòu)定性定量分析。該產(chǎn)品設(shè)計(jì)精密，硬件、軟件功能齊全，靈活適應(yīng)各種物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的測(cè)試、分析和研究，其技術(shù)水平已達(dá)到國(guó)內(nèi)水平。產(chǎn)品采用了θ-θ測(cè)角儀立式、中空軸、射線管座與測(cè)角臺(tái)一體化的結(jié)構(gòu)，可對(duì)粉末、大塊不規(guī)則固體、液體樣品進(jìn)行測(cè)試。
結(jié)構(gòu)新，采用*的立式測(cè)角儀結(jié)構(gòu)，更加方便的樣品放置方式，對(duì)于操作、維護(hù)的工作力度大為簡(jiǎn)化，更加直觀的使用，便于清理實(shí)驗(yàn)后的樣品臺(tái)。
采用細(xì)分驅(qū)動(dòng)電源技術(shù)，精度高，重現(xiàn)性達(dá)到0.0006°、測(cè)量重復(fù)性0.001°、zui小步進(jìn)角度0.0005°；
進(jìn)口NaI閃爍晶體計(jì)數(shù)探測(cè)器，分辨率及長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性好；
X射線管套采用整體銅棒材加工定位精度、射線防護(hù)性更好；采用了轉(zhuǎn)輪式快門(mén)，開(kāi)關(guān)速度更快，故障率更低，射線阻斷性更好，機(jī)柜外輻射劑量低于0.2μSv/h（國(guó)標(biāo)規(guī)定要求低于2.5μSv/h）；
X射線光源的數(shù)字控制電路作了進(jìn)一步的改善，X光機(jī)的工作功率*由計(jì)算機(jī)遙控設(shè)定。高壓與管流的加載過(guò)程受微電腦控制自動(dòng)操作，使用更加簡(jiǎn)單，運(yùn)行更加可靠；
中文視窗操作界面，全新改版的PDP衍射數(shù)據(jù)處理軟件包。在數(shù)據(jù)輸出多樣性方面作了重大改進(jìn)。
配置名稱(chēng) | XD2/3 | |
X射線管 （Cu靶國(guó)產(chǎn)） | 種類(lèi) | Cu靶，NF型（其它靶材可選） |
功率 | 2.0kW | |
焦點(diǎn) | 1.0×10mm2 | |
X射線發(fā)生器 | zui大輸出 | 4KW |
X光管電壓 | 15~60kV，1kV /Step | |
X光管電流 | 6~80mA，1mA /Step | |
管電壓、管電流穩(wěn)定度 | ≤0.01％（電源低壓浮動(dòng)10％） | |
測(cè)角儀 | 測(cè)角儀結(jié)構(gòu) | θs－2θd(XD2) θs－θd(XD3) |
測(cè)角儀掃描半徑 | 180mm | |
掃描角度范圍 | -30~80°（θs） -30～160°（θd） | |
工作方式 | 連續(xù)掃描、定時(shí)步進(jìn)掃描、定數(shù)步進(jìn)掃描 | |
連續(xù)掃描速度 | 0.125～120°/min | |
zui高轉(zhuǎn)速 | 120°/min | |
2θ角重復(fù)精度 | ≤0.0006° | |
zui小步進(jìn)角度 | 0.0005° | |
測(cè)量準(zhǔn)確度 | ≤0.001° | |
發(fā)散狹縫（DS） | 1/6°、1/2°、1°、2° | |
防散射狹縫(SS) | 1/2°、1°、2° | |
接收狹縫(RS) | 0.1，0.15，0.3，0.45，0.6，1，2mm | |
調(diào)整狹縫 | 0.02mm | |
檢測(cè)器 計(jì)數(shù)器 | 晶體類(lèi)型 | NaI |
脈沖幅度分析器（HV/PHA） | 輸出高壓0～1000V，穩(wěn)定性≤0.01％（8h） | |
機(jī)柜 | 機(jī)柜尺寸（mm） | 1200（長(zhǎng)）×400（寬）×1850（高） |
整機(jī)重量（kg） | 500 | |
觀察窗（mm） | 600（高）×400（寬）×10（厚）鉛玻璃 | |
X射線泄露量 | ≤0.1μSv/h（未扣除天然本底） | |
安全措施 | 門(mén)聯(lián)鎖保護(hù)（門(mén)到位置，光閘才打開(kāi)，產(chǎn)生X射線） | |
濾波器 | Ni濾片 | 對(duì)應(yīng)Cu靶 |
石墨彎晶單色器 | 反射效率η≥28％ | |
綜合指標(biāo) | 整機(jī)綜合穩(wěn)定度 | ≤0.3％ |
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楊葉龍 1 3 8 6 8 8 9 0 0 0 1 ：
