產(chǎn)品名稱：制藥廠廢水處理設(shè)備
制藥廢水兩種處理方法簡(jiǎn)介
Fenton試劑法：Fenton法是以鐵鹽(Fe3+或Fe2+)為催化劑，在H2O2存在的情況下會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)氧化性的·OH，它能氧化許多有機(jī)分子物質(zhì)，且反應(yīng)過(guò)程不需要高溫高壓。Fenton法反應(yīng)條件溫和，設(shè)備也較為簡(jiǎn)單，適用范圍比較廣泛。該法的缺點(diǎn)是氧化能力相對(duì)較弱，出水含有大量的鐵離子。
Martinez等利用Fenton試劑對(duì)化學(xué)合成制藥廢水作預(yù)處理，廢水COD為36200mg/L，BOD5/COD為0.08。研究結(jié)果表明，在H2O2和Fe2+的加量分別為3mg/L和0.3mg/L的情況下，COD去除率可達(dá)56.4%，且其中的90%是在開(kāi)始的10min內(nèi)完成的，可見(jiàn)反應(yīng)時(shí)間較短，對(duì)污水的預(yù)處理十分有利。
光催化氧化法：光催化氧化法是一種簡(jiǎn)單、高效很有前途的技術(shù)。它在一定的時(shí)間里可以將幾乎所有的還原性物質(zhì)氧化，具有能量利用率高、脫色效果好，不產(chǎn)生剩余污泥，無(wú)二次污染等優(yōu)點(diǎn)。光催化氧化法是以n型半導(dǎo)體(如TiO2，SrO2，WO3，SnO2等)作為催化劑的催化氧化過(guò)程。當(dāng)這些催化劑受到近紫外光輻射時(shí)，會(huì)形成電子空穴對(duì)(h+—e-)。由于空穴有很強(qiáng)的氧化能力，當(dāng)這些電子和空穴遷移到粒子表面后，使水在半導(dǎo)體表面形成氧化能力的羥基自由基，利用·OH便可氧化各種有機(jī)物并使之*礦化。
Mendez-Arriaga等用1kW氙燈和TiO2催化氧化含(IBP)的模擬廢水。在TiO2和溶解氧分別為1g/L和40mg/L，溫度30℃條件下照射4h，廢水TOC去除率達(dá)80%，BOD5/COD由0提高到0.42，可生化性明顯增大。但是單一的光催化氧化法也難以達(dá)到很好的效果，于是國(guó)內(nèi)外學(xué)者在Photo-Fenton氧化技術(shù)處理制藥廢水方面進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn)研究和理論探索。Shemer等采用UV/H2O2/Fe2+體系處理含模擬廢水，結(jié)果表明，在低壓汞燈(253.7nm)照射下，UV/H2O2/Fe2+體系降解速率明顯提高，在pH=3.5，F(xiàn)e2+和H2O2初始濃度分別為1.18×10-5，2.94×10-5mol/L，反應(yīng)5min條件下，對(duì)含6×10-6mol/L的醫(yī)藥廢水的去除率達(dá)94%，而同樣條件下，H2O2/Fe2+處理的去除率只有76%。
