HMK-CD3型干法激光粒度分析儀
相關(guān)產(chǎn)品：氣流篩分儀 － 旋轉(zhuǎn)分樣器 － 平均粒度儀 － 振實(shí)密度儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
HMK-CD3型干法激光粒度儀，采用干法分散方法，瞬時(shí)分散、瞬時(shí)測(cè)量，特別適合測(cè)試各類干粉樣品（不可在液體中分散的樣品、水泥類粉體、在液體中有溶解、膨大等現(xiàn)象的樣品、磁性材料類的樣品）的粒度分布。
應(yīng)用領(lǐng)域
磁性材料、醫(yī)藥、水泥、粉末涂料、化工、食品、農(nóng)藥、電子、造紙、冶金、陶瓷、建材、磨料、碳酸鈣、、高嶺土、氧化鋁、稀土、催化劑、發(fā)泡劑、填料、石墨、顏料等各種行業(yè)固體粉末的粒度測(cè)試。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 儀器設(shè)計(jì)的具有80個(gè)探測(cè)器的光電探測(cè)器陣列，使儀器的分辨率更高；
2. 儀器操作簡(jiǎn)便，您只需將樣品放置到測(cè)試部位，點(diǎn)擊“測(cè)試”鍵，全部測(cè)量過(guò)程在電腦控制下自動(dòng)完成，輸出測(cè)試報(bào)告。具有結(jié)果存儲(chǔ)、查詢、比較、編輯、刪除等功能。
3. 采用串行數(shù)據(jù)傳輸方式，可以方便地與各種電腦連接組成粒度測(cè)試系統(tǒng)，告別了傳統(tǒng)的板卡連接方式。
4. 具有中英、文六種不同的報(bào)告單格式，內(nèi)容包括累計(jì)粒度分布數(shù)據(jù)與曲線、區(qū)間粒度分布數(shù)據(jù)與直方圖、典型粒徑值如D3、D10、D25、D50、D75、D84、D90、D97、D98等。
5. JL-1178干法激光粒度儀，集光機(jī)電一體化結(jié)構(gòu)，分三大部件：無(wú)油空壓機(jī)、主機(jī)、輔機(jī)（過(guò)濾分離凈化器、抽塵系統(tǒng)、儲(chǔ)塵罐）全密封結(jié)構(gòu)，有效的防止粉塵污染，抗力強(qiáng)，在電腦控制下自動(dòng)對(duì)中校零。儀器測(cè)試重復(fù)性、穩(wěn)定性達(dá)到國(guó)外同類儀器測(cè)量水平。
6. 干粉直接測(cè)試，不需要任何分散劑和試劑。
7. 瞬時(shí)分散、瞬時(shí)測(cè)量，測(cè)試速度快快，從進(jìn)樣到出結(jié)果僅需幾秒鐘。
8. 每次可測(cè)試毫克～千克的樣品量。
9. 分散壓力可調(diào)：分散壓力可根據(jù)物料特性進(jìn)行調(diào)節(jié)。
10. 設(shè)計(jì)的粉料自動(dòng)回收系統(tǒng)，自動(dòng)回收廢料，利于環(huán)境保護(hù)和再利用；
技術(shù)參數(shù)
1. 測(cè)試范圍：0.02μm～2000μm
2. 測(cè)試原理：散射、衍射原理、全量程米氏（Mie）散射理論和專有技術(shù)計(jì)算。
3. 進(jìn)樣方式：干法
4. 重復(fù)性誤差：D50粒徑重復(fù)性誤差達(dá)到3％（國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)）。
5. 數(shù)據(jù)分析：測(cè)試時(shí)間：1～2分鐘
6. 獨(dú)立探測(cè)單元數(shù)：80個(gè)
7. 激光器類型：氦氖激光器，使用壽命長(zhǎng)，實(shí)際使用基本達(dá)10年以上。紫光為輔助光源（）。
8. 激光波長(zhǎng)：0.6328μm
9. 數(shù)據(jù)采樣時(shí)間：1～2秒
10. 工作溫度：5-35℃
11. 工作濕度：＜85%
12. 使用環(huán)境溫度：0-40℃
13. 消耗功率：500W
14. 工作電源：AC220V±10％ 50Hz
15. 進(jìn)樣系統(tǒng)：干粉進(jìn)樣系統(tǒng)
16. 測(cè)試報(bào)告格式：測(cè)量系統(tǒng)參數(shù)、累積百分比粒徑、粒度分布表、粒度分布曲線，同時(shí)提供D10、D25、D50、D75、D90、D97、體積平均粒徑(D4,3)、面積平均粒徑(D3,2)、表面積等數(shù)據(jù)；有自由分布、對(duì)數(shù)正態(tài)分布、R-R分布等多種分布模式；有中英文本版本，供用戶選擇使用。
17. 數(shù)據(jù)輸出：測(cè)試結(jié)果可以直接顯示、保存和打印，也可以數(shù)據(jù)庫(kù)和文本文件、圖像文件等形式保存。
18. 儀器外形尺寸：主機(jī)外形尺寸：860×460×420(mm)
輔機(jī)外形尺寸：660×320×900(mm)
約150kg
