產(chǎn)品介紹：
光譜橢偏儀是一種靈活的光學技術(shù)，可用于確定薄膜材料的光學和物理性能。在沒有接觸或損害材料的情況下，它的技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于研發(fā)實驗室和用于監(jiān)測薄膜生長和沉積過程的制造設(shè)備。依賴于樣品反射的偏振光束的偏振狀態(tài)的確定。當進行SE測量時，在寬波長范圍內(nèi)的許多波長處確定偏振狀態(tài)。通過模型可以將偏振狀態(tài)的變化追溯到薄膜的物理性質(zhì)。材料的層厚、表面粗糙度、折射率（n）和消光系數(shù)（k）等特性可以通過回歸分析精度確定。SE儀器使用白光源，并選擇單獨的波長進行電機驅(qū)動單色儀或可同時檢測多個波長的多通道檢測器進行檢測。增加采集數(shù)據(jù)的角度和波長數(shù)量可提高分析精度，復(fù)雜的層結(jié)構(gòu)。
產(chǎn)品參數(shù)：
波長范圍 | 250~1100mm |
光斑尺寸 | 1~5mm |
試樣尺寸 | 直徑達300mm |
測量厚度范圍 | 高達10μm |
測量時間 | 典型的1s每次 |
角度范圍 | 10到90度 5度為一個間隔 |
精度 | 優(yōu)于0.25% |
重復(fù)性 | ＜1A |
主要應(yīng)用：
1.光刻膠、聚酰亞胺、氧化物、氮化物
2.光學涂層，TiO2，SiO2，Ta2O5 .....
3.半導(dǎo)體化合物，細胞間隙
4.功能薄膜在MEMS/MOEMS
5.薄膜晶體管（TFT）棧
6.導(dǎo)電氧化物：氧化銦錫
7.涂層的科研
8.非晶、納米晶薄膜
9.薄金屬層
