制藥、印染、制造、化工、化纖等行業(yè)在運作過程中會產(chǎn)生大量揮發(fā)性污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒法等（詳見：廢氣處理組合工藝），對于低濃度的VOCs很難實現(xiàn)，而光催化降解VOCs又存在催化劑容易失活的問題，利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制，具有潛在的優(yōu)勢。

低溫等離子廢氣處理設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應(yīng)用于環(huán)境保護、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計算機制造、手機制造、生物材料、衛(wèi)生材料、器皿、、環(huán)保設(shè)備、石油 氣管道、供暖管道、化工子、半導(dǎo)體、航空航天等行業(yè)中。

低溫等離子廢氣處理設(shè)備工藝概述

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的 放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些 電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。

DBD等離子體反應(yīng)區(qū)富含 的物質(zhì)，如 電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較 量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)放電量是電暈放電的50倍，放電密度是電暈放電的130倍。所以，傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)只能用于室內(nèi)空氣異味治理，與其他低溫等離子體技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)是用于工業(yè)化工藝廢氣治理的技術(shù)。

等離子體去除污染物的基本過程

過程一： 電子的直接轟擊

過程二：O原子或臭氧的氧化

O2+e→2O

過程三：OH自由基的氧化

H2O+e→OH+H

H2O+O→2OH

H+O2→OH+O

過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)

低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)特點：

1、技術(shù) ，工藝簡潔：開機后，即自行運轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無需專人操作，除臭率可達。

2、節(jié)能： 無機械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。

3、適應(yīng)工況范圍寬： 設(shè)備啟動、停止，隨用隨開，不受氣溫的影響。在250℃以下和在霧態(tài)工況環(huán)境中均可正常運轉(zhuǎn)。-50℃至 +50℃的環(huán)境溫度仍可正常運轉(zhuǎn)。

4、設(shè)備使用壽命長：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧 樹脂等材料組成， ，采用 材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問題。

5、結(jié)構(gòu)簡單：只需用電，操作極為簡單，無需派專職人員看守，基本不占用人工費。

6、無機械設(shè)備：故障率低，維修容易。

7、應(yīng)用范圍廣：介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能 量高，幾乎可以將所有的異味氣體分子降解。