Lumis EBSD 探測器采用了較*的 CMOS 傳感器技術(shù)，配有高級光學(xué)元件，使用加速索引算法，和低至 10 pA 及更低的束流來分析電子背散射花樣 (EBSP) 。
該探測器采用 > 220 萬像素模式采集，非常適合 HR-EBSD 應(yīng)變測量和用于相鑒別。
使用光學(xué)和傳感器組合，可優(yōu)化探測器從而以每秒數(shù)千幀的速度進(jìn)行高速 EBSD，以縮短采集時間并提高樣品處理量。高級光學(xué)元件和較高的傳感器靈敏度允許在低于 10 pA 的超低束流下采集 EBSP。這對于電子束敏感和劑量受限材料或者在較高的束流可能導(dǎo)致污染或漂移的情況下尤其重要。
一種大規(guī)格 CMOS 傳感器和一個反向變焦光學(xué)元件，以補(bǔ)充和擴(kuò)展內(nèi)置 CMOS 傳感器組合。高效、八邊形閃爍器將背散射電子轉(zhuǎn)換為光，通過高質(zhì)量的反向變焦光學(xué)元器件聚焦到傳感器的用戶控制區(qū)域。這允許連續(xù)選擇“合并”EBSP 大小，并為 EBSP 速度、質(zhì)量和靈敏度提供靈活性。
