英國Cressington 高分辨離子濺射儀208HR
二、主要特性
?？蛇x擇多種鍍膜材料
。精確的膜厚控制
。樣品臺(tái)控制靈活：可對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。
。多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
。樣品室?guī)缀慰勺儯?樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（/s ～ /s）
。寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為 - mbar。
。緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
。操作容易
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
。Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
。Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
。Ir：優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
真空系統(tǒng)：
超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)是現(xiàn)在針對(duì)場發(fā)射電鏡非導(dǎo)電樣品鍍膜處理以及高性能電極薄膜制備的的解決方案。為了減小噴鍍顆粒尺寸對(duì)成像分辨率影響，208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和的膜厚鍍層控制條件，以達(dá)到無顆粒鍍膜效果。而為了更小優(yōu)化非導(dǎo)電樣品表面充電的效果，208HR的特殊樣品臺(tái)設(shè)計(jì)和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整。
Cressington 208HR High Resolution Sputter Coater
The 208HR High Resolution Sputter Coaters from Cressington offer real solutions to the problems encountered when coating difficult samples for high resolution FESEM imaging. High resolution FESEM applications need extremely thin, grain-free, uniform coatings to eliminate charging and to improve contrast on low density materials.
In order to minimize the effects of grain size the 208HR offers a full range of coating materials and gives unprecedented control over thickness and deposition conditions. The 208HR Turbo Pumped High Vacuum System offers a wide range of operating pressures allowing precise control of both uniformity and conformity of the coating, minimizing charging effects. The HIGH / LOW chamber configuration allows easy adjustment of the distance from target to sample.
鍍膜監(jiān)控儀：
超高分辨膜厚監(jiān)控儀MTM-20系統(tǒng)
MTM-20系統(tǒng)是緊湊型易操作膜厚監(jiān)控儀。原理上是為電鏡制備樣品設(shè)置，可以適合多用途的鍍膜系統(tǒng)。她存儲(chǔ)兩個(gè)鍍膜參數(shù)。分辨率優(yōu)于。
High resolution thickness controller MTM-20
The MTM-20 is a compact, low cost thickness monitor. Originally designed for electron microscopy applications, it is also suitable for multiple use in complex deposition systems. It stores parameters for two deposition materials. Resolution better than .
靶材：Pt Target; 鉑靶;
旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)：
208HR旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)有利于得到更好更均勻鍍膜層，可控制旋轉(zhuǎn)速度和傾斜角度。
208HR R-T stage with variable rotation speed control and external tilt adjustment.
