日本sscooling半導體冷水機組Nikola 3K/5K
我們專為半導體加工而設計的最高容量冷水機組
3，000 或 5，000 瓦的冷卻能力
±0.05°C 溫度穩(wěn)定性/重復性
兩種泵選項，流量高達 10 gpm，壓力高達 100+ psig
減少晶圓間的變化，消除晶圓效應
比基于壓縮機的冷水機組節(jié)能高達 80%
采用熱電技術，可靠性高，維護成本低
模塊化設計，易于維護
消除氟利昂和其他有害制冷劑，符合新的環(huán)境法規(guī)
使用更少的設施水和昂貴的冷卻劑，如氟惰性或高登
通信接口可用于 AMAT、LAM、TEL 和 Hitachi 系統(tǒng)
通用電源 – 插入即可在世界任何地方使用
等離子蝕刻、等離子灰分、計量、CMP 和其他工藝的解決方案
規(guī)格
工作范圍：
-10°C 至 80°C
環(huán)境溫度：
10°C 至 40°C 無冷凝
穩(wěn)定性/可重復性：
恒定負載下± 0.05°C（即使在接近環(huán)境溫度時）
制冷量*：
尼古拉 3K：3000 瓦 @ 20°C（20°C 設施用水） 尼古拉 5K：5000 瓦 @ 20°C（20°C 設施用水）
冷卻液/工藝流體：
針對氟惰性/高登或HFE流體進行設置
提供可選的乙二醇/水配置
提供可選的乙二醇/水配置
工藝流體接頭：
3/4“ 世偉洛克（316 不銹鋼）
泵：
磁耦合渦輪機（高功率或高功率）
流量：
高達 10 加侖/分鐘（38 升/分鐘），流量和
壓力可調（10 至 100 psig）
壓力可調（10 至 100 psig）
油箱容積：
10 升（2.6 加侖），帶 2 個液位傳感器
設施用水：
25 升/分鐘（6 加侖/分鐘）@ 7-25°C 過濾，處理過的循環(huán)設施冷卻水，pH 6.5 至 8.2
設施水配件：
3/4“ 世偉洛克（316 不銹鋼）
N2/CDA（必需）：
500 sccm -30°C 露點或更低的 CDA 或 N2，
30-60 psig （2-4 bar），用于低溫操作
30-60 psig （2-4 bar），用于低溫操作
接液材料：
工藝：鋁，不銹鋼和聚合物設施
：密封硬質陽極氧化鋁
和不銹鋼
：密封硬質陽極氧化鋁
和不銹鋼
尺寸（寬 x 深 x 高）：
22 英寸 x 28 英寸 x 35 英寸（56 厘米 x 71 厘米 x 89 厘米）
重量：
~300 磅（136 千克）干
電源輸入：
200-240 VAC 3 相，50/60 Hz，最大 20/30 A
斷路器：
20/30 安培 480 VAC 3 極，帶 GFCI
遠程EMO：
外部干接點
通信：
泛林， 應用材料公司， RS232， 其他
警報：
溫度、液位、系統(tǒng)或組件
故障（顯示、干接點和機器接口）
故障（顯示、干接點和機器接口）
標準：
半 S2-0200，符合 F47 標準，CE
保證：
2 年
