GF100 / GF101 / GF120 / GF120XSL / GF120XSL / GF121
GF100 系列金屬密封熱質(zhì)量流量控制器和儀表
GF100 系列金屬密封質(zhì)量流量控制器和儀表性能：快速響應(yīng)和可重現(xiàn)的高純度/超高純度過程氣體輸送。專為半導(dǎo)體、MOCVD 等其他氣體流量控制應(yīng)用設(shè)計，GF100 系列在可靠性方面優(yōu)于半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)水平，可確保測量結(jié)果可重現(xiàn)并且長時間使用后性能依然高度穩(wěn)定。一臺采用標(biāo)準(zhǔn) MultiFlo™ 技術(shù)的 MFC 即可滿足數(shù)千種氣體類型和各種量程組合的需求，無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度。
結(jié)果：提高工藝靈活性和效率輔以業(yè)內(nèi)純度的過程氣體，有助于限度提高產(chǎn)率和生產(chǎn)效率。
特點
- 長期零點穩(wěn)定性，每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
- 穩(wěn)定時間：700 ms – <1 秒
- 滿量程流速高達(dá) 300 slpm
- 全金屬密封流路：可選擇采用 4µ 或 10µ 英寸 Ra 表面處理的流路
- 耐腐蝕 Hastelloy® T-Rise 傳感器可提升高溫下測量結(jié)果的可重現(xiàn)性
- MultiFlo™ 氣體和量程設(shè)定功能 — 一臺設(shè)備即可滿足數(shù)千種氣體類型和各種量程組合的需求，無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
- 本地顯示屏
- 可選 SDS 氣體輸送
- DeviceNet™、RS-485 L-協(xié)議和模擬接口
優(yōu)勢
- 按照半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對高性能組件進行七次連續(xù)測試以確保其可靠性
- 表面積和未吹掃體積更小的全金屬耐腐蝕流路可確保流路在吹掃步驟更快干燥
- MultiFlo™ 技術(shù)可在 60 秒內(nèi)完成新過程氣體和/或量程的設(shè)定操作 – 不再需要拆除并校準(zhǔn) MFC
- 高度可配置平臺可使大部分品牌的金屬密封 MFC 實現(xiàn)插入式更換和升級，適用范圍包括早期的 Celerity、Mykrolis、Tylan 和 UNIT 品牌產(chǎn)品
- GF120 安全輸送系統(tǒng) (SDS®) 是布魯克斯儀器公司低壓損質(zhì)量流量控制器，適用于輸送注入和勢壘層腐蝕過程中使用的次大氣壓安全輸送系統(tǒng) (SDS) 氣體
- 便捷的用戶顯示屏和獨立的診斷/維護端口有助于設(shè)備安裝、監(jiān)測和故障排除
應(yīng)用
- 半導(dǎo)體蝕刻工具
- 薄膜化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD、MOCVD、PECVD、ALD）
- 物理氣相沉積 (PVD) 系統(tǒng)
- 外延工藝系統(tǒng)
特點
- 長期零點穩(wěn)定性，每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
- 穩(wěn)定時間：700 ms – <1 秒
- 滿量程流速高達(dá) 300 slpm
- 全金屬密封流路：可選擇采用 4µ 或 10µ 英寸 Ra 表面處理的流路
- 耐腐蝕 Hastelloy® T-Rise 傳感器可提升高溫下測量結(jié)果的可重現(xiàn)性
- MultiFlo™ 氣體和量程設(shè)定功能 — 一臺設(shè)備即可滿足數(shù)千種氣體類型和各種量程組合的需求，無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
- 本地顯示屏
- 可選 SDS 氣體輸送
- DeviceNet™、RS-485 L-協(xié)議和模擬接口
優(yōu)勢
- 按照半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對高性能組件進行七次連續(xù)測試以確保其可靠性
- 表面積和未吹掃體積更小的全金屬耐腐蝕流路可確保流路在吹掃步驟更快干燥
- MultiFlo™ 技術(shù)可在 60 秒內(nèi)完成新過程氣體和/或量程的設(shè)定操作 – 不再需要拆除并校準(zhǔn) MFC
- 高度可配置平臺可使大部分品牌的金屬密封 MFC 實現(xiàn)插入式更換和升級，適用范圍包括早期的 Celerity、Mykrolis、Tylan 和 UNIT 品牌產(chǎn)品
- GF120 安全輸送系統(tǒng) (SDS®) 是布魯克斯儀器公司低壓損質(zhì)量流量控制器，適用于輸送注入和勢壘層腐蝕過程中使用的次大氣壓安全輸送系統(tǒng) (SDS) 氣體
- 便捷的用戶顯示屏和獨立的診斷/維護端口有助于設(shè)備安裝、監(jiān)測和故障排除
應(yīng)用
- 半導(dǎo)體蝕刻工具
- 薄膜化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD、MOCVD、PECVD、ALD）
- 物理氣相沉積 (PVD) 系統(tǒng)
- 外延工藝系統(tǒng)
