MJB4 Mask Aligner
小尺寸基片的研發(fā)解決方案
SUSS的MJB4是廣受歡迎的手動光刻機MJB3的全新?lián)Q代產(chǎn)品。操作方便，占地面積小，成為實驗室研究和小批量生產(chǎn)的理想設(shè)備。作為經(jīng)濟型光刻解決方案，MJB4針對直徑達100mm的小尺寸基片工藝確立了一套工業(yè)標準。MJB4配有高可靠和高精度的對準系統(tǒng)，同時具備亞微米量級的高分辨率圖形轉(zhuǎn)移能力，這些特點都使得MJB4的性能明顯優(yōu)于同類設(shè)備。
亮點：
◆ 高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米；
◆ 裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現(xiàn)快速準確對準；
◆ 針對厚膠工藝進行優(yōu)化的高分辨光學系統(tǒng)；
◆ 可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換；
◆ 可通過裝配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。
MJB4系統(tǒng)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。
Details: Alignment
頂面對準：
在光刻工藝中，只需對準器件晶圓同側(cè)的結(jié)構(gòu)（例如再布線層、微凸點 等），用頂部對準功能將掩模位置標記對準晶圓位置標記。 根據(jù)襯底的特性，這可以用存儲的晶圓位置數(shù)據(jù)或者用兩個現(xiàn)場照片 、SUSS MicroTec 開發(fā)的DirectAlign™ 直接對準技術(shù)實現(xiàn)。
我們的客戶可以從中得到以下好處：
◆ 掩模對準器的對準精度
◆ 清晰、強大的圖像識別功能，即使在對比度不理想的情況下
紅外對準：多層晶圓堆疊被應(yīng)用在許多構(gòu)造工藝中。 用紅外照射可以識別并對準通常埋在層之間的對準標記。
紅外光還可以根據(jù)這些埋入的標記進行對準。 這需要使用能透過紅外線的材料，例如硅、III-V族半導(dǎo)體（如砷化鎵）以及臨時鍵合和鍵合分離工藝中所使用的粘著劑 通過個例研究檢查可行性。
為了盡可能擴大紅外對準的使用范圍，SUSS 掩模對準器可以選配強大的紅外光源和高性能攝像系統(tǒng)。
我們的客戶可以從中得到以下好處：
◆ 強大的紅外光源和高性能攝像系統(tǒng)
上海鉑拓能源科技有限公司是一家專業(yè)從事實驗室設(shè)備解決方案、特殊工況用儀器儀表系統(tǒng)解決方案以及*材料應(yīng)用的科技型企業(yè)?！ √厥夤r儀器儀表：公司目前針對糧儲、能源化工等行業(yè)提供復(fù)雜工況環(huán)境下用的測量儀表及解決方案。如俄羅斯利馬克高頻雷達物位計、伊科菲斯環(huán)保電離輻射料位計和密度計、申鑠超聲波在線濃度儀等?？稍诟邷?、超高壓力(測量介質(zhì)溫度：2000℃，60bar)、高粉塵、高腐蝕、易結(jié)晶、蒸汽、超低介電常數(shù) (介電常數(shù)1.2-1.4下依然非常精準)等介質(zhì)工況下使用。目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于糧油儲倉、石化、鋼鐵冶金、電廠、水泥等行業(yè)儲罐物位、介質(zhì)密度及濃度的在線測量?！ 嶒炇移脚_建設(shè)：專業(yè)的化工、材料、環(huán)保技術(shù)團隊，可以為研究單位定制實驗裝置，目前已經(jīng)與中科院硅酸鹽研究所、中科院高等院、航天811所、上海交通大學、上海大學、上海理工大學、同濟大學等高?？蒲性核㈨椖亢献?。代理進口實驗室設(shè)備，如日本Nanovater納米分散設(shè)備、德國納博熱高溫爐、瑞士萬通電化學工作站水分儀和電位滴定儀、安捷倫氣相色譜儀和氣質(zhì)聯(lián)用儀、PE珀金埃爾默ICP、麥克比表面儀、HORIBA激光散射粒徑分布分析儀、掃描電鏡、透射電鏡、哈希濁度儀、梅特勒天平及水分儀、英國科爾康氣體檢測儀、日本理研軟磁交直儀、MATS磁性材料測量系統(tǒng)、合肥科晶以及國外品牌的鋰電池及燃料電池相關(guān)實驗室設(shè)備等。 *材料：*碳材料；針對新能源汽車行業(yè)電池包熱管理的需求，提供定制化隔熱防火材料及熱管理解決方案；提供電子元器件高熱傳導(dǎo)氮化硅基板及金屬陶瓷復(fù)合材料。
MJB4 實驗室研發(fā)用光刻機 產(chǎn)品信息
關(guān)鍵詞：顯微鏡
