英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),它也可傾斜,適合各種樣品使用。預(yù)選擇參數(shù)及全自動(dòng)控制使得精確鍍層及重復(fù)范瘸粱獎(jiǎng)?。粗Z綣馨惺褂玫偷繆梗商岣咝?,K550X能得到精細(xì)的顆粒,由于是冷濺射,所以無(wú)需冷卻靶面或樣品臺(tái)。
腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。
儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(或用戶選擇),提供適合的性能價(jià)格比。可選靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。
功能集中在儀器面板上及即插即用電子學(xué)設(shè)計(jì),的“up-time”,這些用戶友好設(shè)計(jì)滿足了不同學(xué)科的用戶需求。
濺射參數(shù)可被預(yù)先設(shè)置,包括氣體放氣針閥,此閥為電磁閥,一旦設(shè)置,它就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動(dòng)操作,可控制獨(dú)立的真空泵。
英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的特點(diǎn)
1、全自動(dòng)控制
2、低電壓濺射
3、高分辨率精細(xì)涂層
(金顆??蛇_(dá)2 nm)
4、具有傾斜葜玫奶厥廡?br /> 5、均勻厚度沉積
(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃)
6、165 mm(6英寸)腔室
優(yōu)點(diǎn)
(1)易操作
(2)無(wú)需冷卻樣品臺(tái)
(3)精確的再次涂層
(4)適合各種樣品
(5)膜厚度重復(fù)性好
(6)容易裝載或卸載樣品
(7)可預(yù)設(shè)沉積厚度
英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的技術(shù)參數(shù)
1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
2、工作腔室:硼硅酸鹽玻> 165mm Dia x 125mm H
3、安全鐘罩:聚碳酸酯
4、靶:60mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標(biāo)準(zhǔn)靶面)
5、樣品臺(tái)直徑為50mm,靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
6、真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
7、濺射電流:0-50mA
8、沉積速率:0-25nm/分
9、濺射定時(shí): 0-4 分鐘
10、預(yù)設(shè)置針閥:控制氬
11、電源:230 伏 50Hz
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目前我們的主要業(yè)務(wù)包括
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