大慶市AOT光催化滅菌設備介紹： 在AOT光催化水體滅菌技術中，起主要作用的是在反應過程中產(chǎn)生的羥基自由基·OH，羥基自由基具有強氧化性、高活性、非選擇性等特點，能夠迅速將微生物等有機物降解為CO2、H2O和無機鹽。
大慶市AOT光催化滅菌設備介紹： AOT光催化設備雙波段設計，可以產(chǎn)生游離電子及空穴，利用空穴的氧化和電子的還原能力，產(chǎn)生氧化能力的自由基（活性羥基、超氧根離子、-COOH、H2O2等），這些自由基可輕易破壞細菌的細胞，使細胞質(zhì)流失，進而將細胞氧化，直接殺死細菌。而這種特殊的光觸媒材料只是催化反應，本身的性質(zhì)在反應前后不會發(fā)生變化，也沒有任何損耗。
紫外線殺菌消毒是利用適當波長的紫外線能夠破壞微生物機體細胞中的DNA（脫氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子結(jié)構(gòu)，造成生長性細胞死亡和（或）再生性細胞死亡，達到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術是基于現(xiàn)代防疫學、醫(yī)學和光動力學的基礎上，利用特殊設計的率、高強度和命的UVC波段紫外光照射流水，將水中各種細菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。
紫外線消毒是一種物理方法，它不向水中增加任何物質(zhì)，沒有副作用，這是它優(yōu)于氯化消毒的地方，它通常與其它物質(zhì)聯(lián)合使用，常見的聯(lián)合工藝有UV+H2O2、UV+H2O2+O3、UV+TiO2，這樣，消毒效果會更好。
這些費用的估計中沒有包括采用非紫外線消毒工藝時可能附加的去除消毒副產(chǎn)物和隱孢子蟲孢囊的費用。另外還有分析數(shù)據(jù)顯示紫外線消毒的投資和運行成本均低于氯消毒，消毒成本約為氯的一半，但其差別隨著水處理規(guī)模的擴大而縮小。
在法國和前蘇聯(lián)，紫外線消毒局限于小型設備，所建立的大型設備是將紫外線燈串聯(lián)安裝在濾后水的總管內(nèi)。在美國紫外線消毒也限于小設備和泳池，并常與其他消毒劑聯(lián)用。但在實際應用中報道采用紫外線消毒的飲用水廠的規(guī)模已有超過150萬噸/日。
目前我國的紫外線消毒一般用于少量水處理，在純水制備系統(tǒng)應用較多。
大多數(shù)紫外線裝置利用傳統(tǒng)的低壓紫外燈技術，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統(tǒng)和中壓高強度紫外燈系統(tǒng)，由于產(chǎn)生高強度的紫外線可能使燈管數(shù)量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節(jié)約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質(zhì)較差的出水也適用。
目前國內(nèi)研究、生產(chǎn)和應用污水紫外線消毒器還很少。天津大學的顧平等人以天津紀莊子污水處理廠的深度處理出水為研究對象，進行了靜態(tài)和動態(tài)試驗，確定了紫外線劑量與細菌存活率之間的關系，并設計出能產(chǎn)生紊流的紫外線消毒器，多元水環(huán)保技術產(chǎn)業(yè)(中國)有限公司研制生產(chǎn)的封閉式消毒器可處理100～500m3/h水量，并且在onclick="g('游泳池');">游泳池的循環(huán)水消毒中已有應用，模塊化敞開式消毒器可根據(jù)用戶需求具體設計安裝。煙臺市套子灣污水廠的深度處理采用了敞開式紫外線消毒工藝，可向城市提供4×104m3/d的工業(yè)回用水。
范圍及條件
2.3.4.1 紫外線可以殺滅各種微生物，包括細菌繁殖體、芽胞、分支桿菌、病毒、真菌、立克次體和支原體等，凡被上述微生物污染的表面，水和空氣均可采用紫外線消毒。
2.3.4.2 紫外線輻照能量低，穿透力弱，僅能殺滅直接照射到的微生物，因此消毒時使消毒部位充分暴露于紫外線下。
2.3.4.3 用紫外線消毒紙張、織物等粗糙表面時，要適當延長照射時間，且兩面均應受到照射。
2.3.4.4 紫外線消毒的適宜溫度范圍是20-40℃，溫度過高過低均會影響消毒效果，可適當延長消毒時間，用于空氣消毒時，消毒環(huán)境的相對濕度低于80%為好，否則應適當延長照射時間。
2.3.4.5 用紫外線殺滅被有機物保護的微生物時，應加大照射劑量?？諝夂退械膽腋×Ｗ右部捎绊懴拘Ч?/span>
使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時間：不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同，用紫外線消毒時使用照射劑量達到殺滅目標微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細菌繁殖體時，應使照射劑量達到 10000 uW.s/CM2；殺滅細菌芽胞時應達到100000 uW.s/CM2；病毒對紫外線的抵抗力介于細菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細菌芽胞更強，有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2；在消毒的目標微生物不詳時，照射劑量不應低于100000 uW.s/CM2。
