一、 EDI超純水設(shè)備概述
二、 EDI的工作原理
EDI（Electrodeionization）是利用離子交換樹脂來(lái)去除水中的離子。在EDI設(shè)備中，進(jìn)水中的各種離子通過(guò)樹脂層交換后被脫除，水得到了純化。此時(shí)是利用離子交換原理脫除水中的離子。由于膜對(duì)兩邊加有電壓，水分被電解為氫氧根和氫離子去再生樹脂，同時(shí)，被氫離子和氫氧根離子交換下的離子在電流的作用下，被遷移至濃水室而排放，從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生連續(xù)使用的目的。水在EDI模塊中的純化過(guò)程如下：
1) 進(jìn)水分布EDI模塊中各室。
2) 在直流電作用下各種離子，向各自相應(yīng)電極遷移。
3) 與混床一樣，水中的各種離子被離子交換樹脂所交換，然后被交換的離子通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到濃水室中。淡水室中的水流出EDI模塊（只有離子可通過(guò)離子交換膜，而水不能通過(guò)）而成淡水。
4) 濃水室中的濃水循環(huán)。為提高和維持濃水室的電導(dǎo)，大部分濃水進(jìn)行循環(huán)。
5) 循環(huán)的濃水需少部分排放，由進(jìn)水補(bǔ)充。此部分排放濃水可返回至前級(jí)RO裝置，重復(fù)使用。
6) 水分子在電壓作用下被電離為氫離子和氫氧根離子，通過(guò)各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到樹脂層，連續(xù)再生樹脂。
三、EDI高純水制取設(shè)備與傳統(tǒng)混床技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)
連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定；無(wú)許用酸堿再生；不會(huì)因再生而停機(jī)；節(jié)省了反洗和清洗用水；產(chǎn)水率高達(dá)95%；無(wú)再生污水，無(wú)須污水處理設(shè)施；無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和稀釋設(shè)備；占地面積小；使用安全，避免工人接觸酸堿。投資僅為離子交換的30%。運(yùn)行成本僅為離子交換的65%。
| 1、無(wú)化學(xué)污染。 2、可連續(xù)再生； 3、啟動(dòng)/操作方便； 4、模塊更換方便； 5、產(chǎn)水純度更高； 6、回收率更高； 7、占地面積更小； 8、節(jié)約成本。 |  |
四、EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域
1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
2. 超純材料和超純化學(xué)試劑；
3. 實(shí)驗(yàn)室和中試車間；
4. 汽車、家電表面拋光處理；
5. 其他高科技精微產(chǎn)品。
五、EDI模塊的進(jìn)水要求及性能參數(shù)
| 進(jìn)水總鹽量（CaCO3計(jì)） | <25ppm或50μs> | TOC | <> |
| PH值 | 5.0～9.0 | 余氯 | <> |
| 硬度（CaCO3計(jì)） | <> | Fe、Mn、H2S | <> |
| 可溶硅 | <> | 工作溫度 | 5～40℃ |
| 工作壓力 | 1.0～2.0bar | 工作壓差 | 0.4～1.0bar |
| 水利用率 | >95% | 產(chǎn)水水質(zhì) | >8.0MΩ.cm |
