芯片切割水回用設備 權坤恒溫水循環(huán)系統(tǒng)
芯片切割廢水主要來源于晶圓切割過程中的研磨與清洗環(huán)節(jié)。這些廢水中含有懸浮物、有機溶劑、重金屬離子（如銅、鎳、鉻等）、氟化物、酸堿物質等。廢水的成分復雜，濃度高，毒性大，且濃度波動性強?。
芯片切割水回用設備 權坤恒溫水循環(huán)系統(tǒng)
一、處理工藝流程
芯片切割廢水的處理工藝通常包括以下幾個步驟：
1?. 收集與初步過濾?：廢水首先通過廢水收集系統(tǒng)集中收集，然后使用水泵輸送至多介質過濾器進行初步固液分離和懸浮物去除，防止后續(xù)處理設備堵塞?。
?2. 調節(jié)pH值?：通過加藥、混合等方法調節(jié)廢水的pH值，使其達到后續(xù)處理的范圍，有助于提高處理效率?。
3?. 化學沉淀?：向廢水中投加化學藥劑（如CaCl2、PAC等），使某些離子（如氟離子、磷酸根離子等）形成難溶于水的沉淀物，通過沉淀或過濾的方式將其去除?
4?. 生物處理?：在經過預處理和化學處理后，剩余的有機物可以通過活性污泥法或生物膜法進一步降解。活性污泥法是通過廢水與含有大量微生物的活性污泥混合，在曝氣條件下進行反應；生物膜法則是在填料上形成一層生物膜，廢水通過填料時與生物膜接觸，微生物在膜上降解有機物?。
5?. 深度處理?：包括膜技術（如超濾、納濾、反滲透）和高級氧化技術（如臭氧氧化、光催化氧化等），用以去除微細顆粒、溶解態(tài)無機鹽和難降解有機物，實現廢水的深度凈化?。
二、具體設備和技術
?多介質過濾器?：用于初步固液分離和懸浮物去除。
?調節(jié)池?：進行水量和水質的均質化處理。
?中和反應塔?：進行酸堿中和反應。
?沉淀池?：進行化學沉淀。
?生物反應池?：進行生物處理。
?深度處理裝置?：包括膜技術和高級氧化技術設備。
