MFP Nano plus 4000
帶有U-SMPS的MFP Nano plus 4000 -使用兩個UF-CPC根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準在原始和清潔氣體中實時測定餾分分離效率，并檢測MMPS范圍
| ? 實時測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率 ? 通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時間減少一半。 ? 無需稀釋！ ? 結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始氣體中的＊高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的＊高計數(shù)率對應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。 ? 符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的國際可比較的測量結(jié)果 ? 方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據(jù)要求提供） ? 方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍 ? 測試方法的高重復(fù)性 ? 靈活的過濾器測試軟件FTControl ? 易于操作，即使未經(jīng)培訓(xùn)的人員也可以快速使用設(shè)備進行操作 ? 客戶可以獨立進行清潔 ? 設(shè)置時間短，吞吐時間快 ? 可移動設(shè)置，易于在腳輪上移動 ? 在交付前驗收測試和交付時明確驗證各個組件和系統(tǒng)的功能 ? 運行可靠 ? 幾乎不需要維護 ? 減少您的運營費用 |
Palas®的MFP過濾器測試臺已經(jīng)在開發(fā)和質(zhì)量控制的實際應(yīng)用中在世界各地經(jīng)過多次驗證。
MFP Nanoplus 4000專門設(shè)計用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準精確地測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率。
本設(shè)備是一種現(xiàn)代且功能強大的納米顆粒測量設(shè)備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數(shù)值分析：
使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數(shù)器在原始氣體和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。
MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優(yōu)勢：
? 通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
? 結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的＊高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的＊高計數(shù)率對應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。因此，不再需要常規(guī)的氣溶膠稀釋。
借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。
測試序列的高度自動化設(shè)置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調(diào)整程序，共同提供高度可靠的測量結(jié)果。
MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質(zhì)和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。
我們的質(zhì)量細節(jié)
1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠，用于KCl/NaCl或DEHS。集成的Nafion干燥系統(tǒng)。通過質(zhì)量流量控制器單獨調(diào)節(jié)產(chǎn)生的煙霧體積流量。
2.氣溶膠中和：Kr-85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調(diào)節(jié)的離子流適用于不同的質(zhì)量流量?；旌峡諝猓烧{(diào)節(jié)流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)監(jiān)視和控制。
3.可移動的氣動過濾器支架，用于快速拆卸和裝載帶有集成式DEMC 2000（差動遷移分類器）的試驗臺。 U-SMPS包含的DEMC 2000（差分電遷移率分類器）對UGF 2000產(chǎn)生的多分散氣溶膠粒徑進行分類。在DEMC 2000的下游僅包含單分散顆粒。DEMC 2000自動調(diào)節(jié)相關(guān)粒徑控制單元。
4.使用UF-CPC 200進行高濃度原始氣體測量。為了測量原始氣體中的顆粒數(shù)，UF-CPC 200冷凝顆粒計數(shù)器在單計數(shù)模式下被用于計數(shù)高達2,000,000個顆粒/立方厘米的顆粒。這意味著在濃度原始氣體測量中不需要稀釋系統(tǒng)。無需長時間或復(fù)雜地清潔系統(tǒng)。
5. 使用UF-CPC 50對低濃度進行清潔氣體數(shù)值分布測量
“全流量” UF-CPC 50，針對清潔氣體中的低顆粒濃度（單計數(shù)模式，＊大10,000個顆粒/ cm3）進行了優(yōu)化。
在UF-CPC的“全流量”顆粒測量中,對整個采樣體積流量進行了全面分析。這意味著在清潔氣體中低顆粒濃度下可以實現(xiàn)很高的計數(shù)率。
Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數(shù)據(jù)。
將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍
通過適當調(diào)整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano + 4000中的相關(guān)MPPS范圍相匹配。
圖1：使用DEHS調(diào)節(jié)所需MPPS范圍的粒徑
圖2：在>=140 nm的MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率比較。
? 清晰展示整個測量范圍內(nèi)過濾介質(zhì)的分離效率。
? 精確測定MPPS范圍。
? ＊高的測量重現(xiàn)性和可重復(fù)性突顯分離效率的微小差異。
? 優(yōu)化的氣溶膠應(yīng)用，使每次分離效率測量的測量時間短至兩分鐘。
? 分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值
自動化：
MFP Nano + 4000集成質(zhì)量流量控制器，用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件進行自動監(jiān)視和控制。
在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數(shù)據(jù)，例如過濾器的體積流量和壓差。
驗證原始氣體和清潔氣體中的采樣是否合格：在初始培訓(xùn)過程中，將演示未經(jīng)過濾的原始氣體和清潔氣體測量符合性驗證。
使用MFP Nano + 4000，可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個測量范圍內(nèi)進行餾分分離效率測量。另外，在相關(guān)的流入速度下清楚地確定介質(zhì)的相關(guān)壓力損失。
