渦輪分子泵應用于 PVD 鍍膜設備
PVD 即物理氣相沉積, 是當前國際上廣泛應用的的表面處理技術, 在真空條件下, 利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質部分離化, 在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基材上. 它具有沉積速度快和表面清潔的特點, 特別具有膜層附著力強, 繞性好, 可鍍材料廣泛等優(yōu)點. PVD鍍膜技術廣泛應用于各類產品加工制造.
PVD 鍍膜設備需要清潔的高真空
由于目前對真空鍍膜設備的清潔度, 鍍膜層的質量, 所用材料等要求的不斷提高, 傳統(tǒng)的以油擴散泵為主的真空系統(tǒng)因油蒸汽污染的原因, 已經(jīng)無法滿足使用要求. 因此, 以分子泵為主的無油真空鍍膜系統(tǒng)已逐漸成為市場的主流. 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 分子泵依靠自身過硬技術在分子泵領域一直處于主導地位.根據(jù)客戶實際需要, 成功和國際,國內鍍膜涂層設備制造商長期合作.
上海伯東 PVD 鍍膜設備客戶案例一: 某真空技術公司汽車活塞環(huán)鍍膜機, 硬質涂層
每個系統(tǒng)配置2臺渦輪分子泵 Hipace 2300
上海伯東 PVD 鍍膜設備客戶案例二: 歐洲 platit 工具鍍膜, 主要使用德國普發(fā) Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 系列
前級泵配備干式真空泵 Pfeiffer 普發(fā)隔膜泵 MVP 系列
上海伯東 PVD 鍍膜設備客戶案例三：某生產夜視鏡（多堿金屬鍍膜）企業(yè)
主要使用 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 400
Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時! 普發(fā)分子泵提供復合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>
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