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廣電計量檢測集團股份有限公司

無掩膜光刻機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱安徽澤攸科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地銅陵市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2025/7/9 11:08:27
  • 訪問次數(shù)19
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澤攸科技成立于2016年,擁有安徽銅陵、北京、上海和東莞四家分公司,是一家具有自主知識產權的精密儀器高科技公司。公司專注于掃描電鏡、原位測量系統(tǒng)、臺階儀、探針臺、電子束光刻機等精密設備的研究,國家在科學精密儀器領域的諸多空白。人才是企業(yè)的核心競爭力和發(fā)展的驅動力。澤攸科技于20世紀90年代便開啟電子顯微鏡及相關原位附件的研發(fā),已逐步打造成為科學精密儀器領域人才聚集地?,F(xiàn)有員工100多人,其中院士、專家團隊20余人,擁有精通機械、光學、超高真空、電子技術、微納加工技術、軟件開發(fā)技術的專業(yè)團隊。為解決行業(yè)內“卡脖子”難題,企業(yè)全力培養(yǎng)人才,重視產學研用合作,并與十幾家高校及科研院所建立了長期合作機制,以應用為導向,共同開展行業(yè)內關鍵共性技術開發(fā)。雄厚的技術與人才實力,贏得了客戶的深厚信賴。在許智博士的帶領下,從項目建設、平臺搭建、產品創(chuàng)新抓起,公司實現(xiàn)快速發(fā)展,產量、銷售、利潤逐年大幅增長。承擔和參與了國家重點研發(fā)計劃、國家重大科研裝備研制項目等多個重量級科研項目,如“低溫強磁場綜合物性測量儀”項目和“高通量生物樣品真空傳遞裝置”項目的立項,并獲得包括北京市科學技術一等獎在內的多次省部級獎項。構建了“產學研用”協(xié)同技術創(chuàng)新機制,多次實現(xiàn)國內材料表征測量設備的“國產替代”,相關產品具有較好的國際聲譽、產品檢測數(shù)據(jù)被國際盛名期刊采納。桌面式掃描電子顯微鏡、大行程納米位移臺、臺階儀等產品實現(xiàn)了國產化零的突破,等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、掃描隧道顯微鏡系統(tǒng)等產品達到國內外優(yōu)異水平。核心產品經(jīng)過眾多企業(yè)驗證,已進入大規(guī)模量產階段,現(xiàn)已得到數(shù)百個高質量用戶的盛贊,遍布國內27個省級行政區(qū),不僅覆蓋中國多個科學實驗室,還遠銷海外等發(fā)達國家,在業(yè)內享有高度好評。經(jīng)過二十多年的技術積累,以及一支專業(yè)的研發(fā)與生產團隊,澤攸科技以自主知識產權的技術為核心,在半導體芯片加工和材料表征測量領域屬于國內。關鍵半導體加工與材料表征測量儀器設備實現(xiàn)國產化,關鍵之處就在于實現(xiàn)自主可控。未來,澤攸科技還將繼續(xù)堅持“用精密量測賦能科技創(chuàng)新”的理念,以“科技指領”打破進口納米科學儀器設備的壟斷,聚焦新材料、新能源、半導體、生物醫(yī)藥、基礎科研等前沿領域,實現(xiàn)自主研發(fā),打造集微納米加工、微納表征、微納操縱于一體的納米技術全產業(yè)鏈解決方案,加速國產科學科研儀器產業(yè)落地,助力國產科學儀器健康蓬勃發(fā)展。
臺階儀
澤攸科技無掩模光刻機是一種的光刻技術設備,它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。
無掩膜光刻機 產品信息

澤攸科技無掩膜光刻機是一種的光刻技術設備,它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。


技術特點

▲ 納米壓電位移臺拼接技術

▲ 紅光引導曝光,所見即所得

▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質量

▲ CCD相機逐場自動聚焦

▲ 灰度勻光技術


光路遠離結構圖


主要指標

關鍵技術指標
紫外光源中心波長405nm
勻光率96%
極限分辨率0.5μm
單寫場曝光面積1.2×0.9 mm2 (10×) 2.5×1.9 mm2 (5×)
刻寫速率10 mm2/min (10x) 40 mm2/min (5x)
配置手動版標準版
光源405 LED405 LED 或 汞燈光源
DMD芯片65006500
微鏡尺寸7.56μm7.56μm
微鏡陣列1920×10801920×1080
單寫場面積(10x)1.45×0.81mm1.45×0.81mm
位移臺手動位移臺電動位移臺
離焦控制手動聚焦自動聚焦
大面積光刻手動自動拼接光刻
套刻不支持支持單場/多場套刻
灰度光刻不支持支持3D灰度光刻

應用案例

澤攸科技無掩膜光刻機在MEMS壓力傳感器制造中的應用

澤攸科技無掩膜光刻機在PtTe2/WS2/金字塔狀Si異質結構制備中的應用

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