澤攸科技的等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(CVD)是一款多功能的電感耦合等離子體設(shè)備,專門設(shè)計用于制備高純度、高性能的固體薄膜。該系統(tǒng)通過微波或射頻技術(shù)將目標(biāo)氣體電離,促進化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積出所需的薄膜。
這款CVD設(shè)備具有在多種襯底上直接生長新型二維材料的能力,如石墨烯等,這些材料廣泛應(yīng)用于新材料和新器件的研發(fā)。該工藝不僅簡單且成本低廉,還與傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長工藝兼容,為科研和工業(yè)應(yīng)用提供了極大的便利。
澤攸科技的CVD系統(tǒng)以其高效的性能和廣泛的應(yīng)用范圍,成為了材料科學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的理想選擇。它不僅能夠提供高質(zhì)量的薄膜沉積,還能夠在保證工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性的同時,實現(xiàn)精確的過程控制。澤攸科技致力于為客戶提供高質(zhì)量的科研儀器,等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD正是其技術(shù)實力和創(chuàng)新精神的體現(xiàn)。