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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

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納米氧化鋅分散機(jī)

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更新時間：2016-08-15 10:22:15瀏覽次數(shù)：639次

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  研磨分散機(jī)

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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

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聯(lián)系人：段明明（銷售工程師）

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產(chǎn)品簡介

納米氧化鋅分散機(jī)，納米級粉末的分散，普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致粒徑變大。IKN研磨式分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題！氧化鋅分散機(jī)，納米物料分散機(jī)，研磨式分散機(jī)，IKN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級物料的分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，還原原始納米粒徑，更高效！

詳細(xì)介紹

納米氧化鋅分散機(jī)，氧化鋅分散機(jī)，納米氧化鋅研磨分散機(jī)，高剪切分散機(jī)，納米分散機(jī)，研磨式分散機(jī)，納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品，使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

納米氧化鋅分散機(jī)，納米級粉末的分散，普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象，導(dǎo)致粒徑變大。IKN研磨式分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題！

CMD2000系列研磨式分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)！ IKN主：www.iknchina。。ｃｏｍ段明明

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

型號	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).
，氧化鋅分散機(jī)，納米物料分散機(jī)，研磨式分散機(jī)，IKN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級物料的分散機(jī)，解決團(tuán)聚問題，還原原始納米粒徑，更高效！

關(guān)鍵詞：分散設(shè)備乳化機(jī)

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