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更新時(shí)間：2024-03-29 10:16:42瀏覽次數(shù)：2365次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線HTL-350光刻烤膠機(jī)(晶圓烤膠機(jī))板表面溫度均勻，溫度100℃以內(nèi)，精度0.1~0.3C，200℃以內(nèi)，精度%0.5℃,可選帶有保溫蓋，整個(gè)加熱區(qū)形成一個(gè)保溫腔，大大提高溫度均勻度，也起到防塵作用。
HTL-350光刻烤膠機(jī)(晶圓烤膠機(jī))產(chǎn)品說明：
1.采用NanoHeat世界一級(jí)熱能技術(shù)驅(qū)動(dòng)，超紅外線輻射、無機(jī)械發(fā)熱組件，可干燒，無電磁場(chǎng)干擾和危害，
2.板表面溫度均勻，溫度100℃以內(nèi)，精度0.1~0.3°C，200℃以內(nèi)，精度%0.5℃，
3.LED顯示，可設(shè)定預(yù)約溫度，內(nèi)置溫度探頭和外部溫度探頭，可自由切換。
4.超溫報(bào)警功能，設(shè)定溫度計(jì)時(shí)功能，實(shí)驗(yàn)更方便
5.陽極氧化、納米陶瓷黑色噴砂，熱射率高，無縫加熱板面，平整度高，耐酸，耐堿，耐腐蝕，無交叉污染，清潔容易。
6.可選帶有保溫蓋，整個(gè)加熱區(qū)形成一個(gè)保溫腔，大大提高溫度均勻度，也起到防塵作用；
7.機(jī)器可選擇帶有負(fù)壓功能，表面帶有若干吸附孔，可使被加熱材料與加熱板表面緊密貼合，起到受熱均勻效果；
8.免受磁干擾和危害：使其成為硅晶片晶圓研發(fā)，醫(yī)療和實(shí)驗(yàn)室使用的好選擇
9.廣泛用于工業(yè)，電子半導(dǎo)體，農(nóng)業(yè)，化學(xué)，制藥，生物，新材料備制等實(shí)驗(yàn)加熱。
HTL-350光刻烤膠機(jī)(晶圓烤膠機(jī))產(chǎn)品特性：
1.增強(qiáng)紅外線加熱技術(shù)，
2.具有真空負(fù)壓功能，表面設(shè)有若干吸附孔，可使被加熱材料與表面緊密貼合，從而達(dá)到受熱均勻效果。
3.帶有加熱保溫蓋，溫度可設(shè)置，整個(gè)加熱區(qū)形成一個(gè)保溫腔，大大提高溫度均勻度，也起到防塵作用；
4.自動(dòng)進(jìn)氣功能,過溫保護(hù)功能、超溫報(bào)警功能，計(jì)時(shí)功能，已獲得CE認(rèn)證證書、實(shí)驗(yàn)更安全、方便?。?br>
HTL-350光刻烤膠機(jī)(晶圓烤膠機(jī))技術(shù)參數(shù)：
1.加熱輸出功率：2000W
2.板面溫控：室溫～350℃
3.溫控模式：LED數(shù)顯溫度自由設(shè)定
4.溫度測(cè)試：內(nèi)置溫控與外置溫控可切換
5.溫度控制精度：±0.1
6.加熱區(qū)：350×350mm（尺寸可定制）
7.功能選項(xiàng)：真空吸附功能：無極調(diào)節(jié)真空度，使樣品受熱更均勻；
8.頂針功能：直徑3mm,高度30mm任意設(shè)定高度，方便取片，樣品無接觸，避免污染；
9.限位功能：適合不同大小尺寸晶圓，防止樣品偏移，起到固定作用；
10.程序分段控制系統(tǒng)：時(shí)間設(shè)定，功率輸出比設(shè)定，升溫曲線，通信等
11.產(chǎn)品外形尺寸：420×460×250mm
12.板面材質(zhì)：納米陶瓷噴砂加熱面板
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