一、光離子除臭技術(shù)原理
光離子除臭設(shè)備是集UV光解技術(shù)與低溫等離子體技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)于一體的惡臭氣體治理設(shè)備，兩種技術(shù)協(xié)同作用，達(dá)到更好的處理效果。
1、UV光解原理：
利用特制的高能高臭氧UV光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOCs類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵， 同時(shí)空氣中的氧分子被分解成游離氧，即活性氧，因游離氧不穩(wěn)定需與氧分子結(jié)合，產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧) O＊+O2→O3(臭氧),臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，再通過臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使呈游離狀態(tài)的單分子被臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
另外，高能UV紫外線光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化，*達(dá)到脫臭及殺菌的目的。
2、低溫等離子體原理：
通過外加電壓，當(dāng)達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生各種高強(qiáng)度、高電能的活性物質(zhì)，包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。由于UV光解對(duì)于一些能量較高分子鍵未能有效裂解，所以將UV光解區(qū)后未分解的惡臭氣體分子與這些高能電子、自由基等活性粒子作用，使惡臭氣體分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，同時(shí)，在強(qiáng)電場(chǎng)作用下產(chǎn)生的臭氧具有*的氧化能力，使惡臭分子zui終被氧化分解成二氧化碳、水及其他低害物質(zhì)。
光離子除臭設(shè)備是光氧化-等離子組合設(shè)備，是一種復(fù)合氧化設(shè)備，在外加UV光源的加強(qiáng)照射下，可促使等離子體產(chǎn)生的大量中性基團(tuán)離子以及有害氣體分子發(fā)生反應(yīng)，即在等離子發(fā)射器及紫外光源發(fā)出等離子體和高能光子的共同作用下，設(shè)備內(nèi)部發(fā)生等離子體裂解反應(yīng)、UV紫外光解反應(yīng)，臭氧氧化反應(yīng)及協(xié)同氧化反應(yīng)等復(fù)雜的過程，有效降解大分子有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過一系列復(fù)雜的氧化還原反應(yīng)后zui終生成小分子化合物CO2和H2O。
二、設(shè)備優(yōu)勢(shì)
1、優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)：集UV光解與低溫等離子體技術(shù)于一體，先通過UV光解將大部分的分子化學(xué)鍵斷裂，同時(shí)產(chǎn)生大量臭氧，使惡臭氣體被氧化分解。惡臭氣體中部分分子的化學(xué)鍵鍵能較高，導(dǎo)致UV光解未能分解。而低溫等離子體技術(shù)對(duì)于低濃度惡臭氣體有很好的處理效果，所以采用低溫等離子體對(duì)未分解的分子進(jìn)一部降解，將惡臭氣體*氧化分解。
2、除臭：一次性凈化效率高，能同時(shí)凈化多種污染物，無需添加任何物質(zhì)，二次污染。
3、適應(yīng)性強(qiáng)：等離子體光解設(shè)備可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
4、操作方便：模塊化設(shè)計(jì)，便于取出檢修和清理。
5、進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。
三、適用范圍：
離子除臭設(shè)備主要用于噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭氣體治理。
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