性價(jià)比高的電廠緩蝕阻垢劑盡在廊坊藍(lán)星

有機(jī)膦系列阻垢劑
    ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸變作用?？勺柚顾谐晒耕}類形成水垢，特別是碳酸鈣垢的形成。ATMP在水中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不易水解。在水中濃度較高時(shí)，有良好的緩蝕效果。HEDP是一種有機(jī)膦酸類阻垢緩蝕劑，能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物，能溶解金屬表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用，在高pH下仍很穩(wěn)定，不易水解，一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機(jī)膦酸(鹽)好。EDTMPS是含氮有機(jī)多元膦酸，屬陰極型緩蝕劑，與無機(jī)聚磷酸鹽相比，緩蝕率高3～5倍。能與水混溶，無毒無污染，化學(xué)穩(wěn)定性及耐溫性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能離解成8個(gè)正負(fù)離子，因而可以與多個(gè)金屬離子螯合，形成多個(gè)單體結(jié)構(gòu)大分子網(wǎng)狀絡(luò)合物，松散地分散于水中，使鈣垢正常結(jié)晶被破壞。EDTMPS對硫酸鈣、硫垢的阻垢效果好。EDTMPA具有很強(qiáng)的螯合金屬離子的能力，與銅離子的絡(luò)合常數(shù)是包括EDTA在內(nèi)的所有螯合劑中zui大的。EDTMPA為高純試劑且無毒，在電子行業(yè)可作為半導(dǎo)體芯片的清洗劑用于制造集成電路;在醫(yī)藥行業(yè)作放射性元素的攜帶劑，用于檢查和治療疾病;EDTMPA的螯合能力遠(yuǎn)超過EDTA和DTPA，幾乎在所有使用EDTA作螯合劑的地方都可用EDTMPA替代。
緩蝕阻垢劑
    具有優(yōu)良的阻垢作用，低毒或無毒，熱穩(wěn)定性好，對碳酸鹽防垢效果尤優(yōu)30mg/L時(shí)有良好的緩蝕性能。氨基三亞甲基膦酸具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸變作用?？勺柚顾谐晒耕}類形成水垢，特別是碳酸鈣垢的形成。因此用于電廠循環(huán)水、鋼廠循環(huán)水、油田等循環(huán)水系統(tǒng)的緩蝕阻垢。
（一）產(chǎn)品作用
    循環(huán)水在系統(tǒng)循環(huán)使用時(shí)，因?yàn)樗淖匀伙L(fēng)干外濺，露天環(huán)境中的雜質(zhì)進(jìn)入，水中離子濃度升高，極易引起循環(huán)冷卻水系統(tǒng)的管道結(jié)垢、污堵、腐蝕。所以系統(tǒng)日常運(yùn)行中，添加緩蝕阻垢劑是維護(hù)系統(tǒng)的。緩蝕阻垢劑有著雙重作用，通過阻垢劑的分散作用起到減緩管道結(jié)垢，同時(shí)也因緩蝕劑起到防腐的作用。本品采用科學(xué)*的阻垢劑配方成分，配合多種有膦酸羧酸、聚羧酸、表面活性劑等配復(fù)而成，對易結(jié)垢物質(zhì)如：碳酸鈣、碳、硫酸鈣、硫、硫酸鍶、磷酸鈣等有著良好的晶格畸變作用，從而減少這類物質(zhì)的飽和析出。
（二）產(chǎn)品理化指標(biāo)
項(xiàng)目
技術(shù)指標(biāo)
唑類（以C6H5N3計(jì)）%≥0.8
膦酸鹽（以PO43- 計(jì)）%≥15
亞磷酸（以PO33-計(jì)）%≤2.25
正磷酸（以PO43-計(jì)）%≤0.75
固體含量 %≥23
PH（1%水溶液）1.5-4.5
說明：我們可以根據(jù)客戶具體要求另行生產(chǎn)
（三）產(chǎn)品使用方法
1. 使用范圍：廣泛應(yīng)用于電廠、鋼廠、電鍍廠、玻璃廠、化工廠、煉油廠等企業(yè)的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)
2. 使用濃度：一般推薦投加濃度5-30ppm，根據(jù)具體水質(zhì)可適當(dāng)調(diào)整
3. 投加位置：可用加藥泵連續(xù)注入循環(huán)泵入口處；也可直接將每天用量直接投加于冷卻塔中
（四）產(chǎn)品包裝與貯存
藍(lán)色塑料桶包裝，每桶凈重25KG；貯存于陰涼通風(fēng)處1年。