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金相試樣單盤自動磨拋機 LMP-4

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更新時間：2025-02-01 10:27:22瀏覽次數(shù)：36次

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鄭州偉創(chuàng)檢測設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

LMP-4型自動磨拋機為雙單臺式磨拋機，跟據(jù)**標(biāo)準(zhǔn)，采用**工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款單點加力的新型研磨拋光設(shè)備。

詳細(xì)介紹

LMP-4型自動磨拋機為雙單臺式磨拋機，跟據(jù)**標(biāo)準(zhǔn)，采用**工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款單點加力的新型研磨拋光設(shè)備。(無電子比例閥，手動調(diào)壓）
具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器，同事具體氣動單點加載功能。本機采用了微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實現(xiàn)無級可調(diào)，制樣壓力、時間設(shè)定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應(yīng)用性。具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、安全**、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點。
本機磨頭電磁鎖自動落鎖功能，安全便捷。帶有水冷卻裝置，可以在研磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織并隨時將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。
適用于對金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光**精拋光過程進行自動制樣。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標(biāo)：
磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm、φ300mm）
磨拋盤轉(zhuǎn)速：50-1000 r/min（無極調(diào)速）以及300 / 600 / 900 r/min（3級定速）
磨拋盤轉(zhuǎn)向：可調(diào)正反轉(zhuǎn)選擇
磨拋頭轉(zhuǎn)速：5-150 r/min（無極調(diào)速）
制備樣數(shù)量：4個
輸入氣源：0.4-0.7Mpa
制樣時間：0-3000 S
制樣壓力：單點20-70N 中心0-300N
試樣直徑：出廠標(biāo)配φ30mm（可訂制直徑φ22-φ45mm）
輸入電壓：單相 AC220V 50Hz
輸入功率：1.1KW
外形尺寸：550*760*640mm
凈重：60KG