| 1. 反滲透膜元件的污染物 在正常運行一段時間后，反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中zui常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。 污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關，污染是慢慢發(fā)展的，如果不早期采取措施，污染將會在相對短的時間內(nèi)損壞膜元件的性能。 定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認膜元件發(fā)生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。表 1 列出了常見污染物對膜性能的影響。 2. 污染物的去除 污染物的去除可通過化學清洗和物理沖洗來實現(xiàn)，有時亦可通過改變運行條件來實現(xiàn)，作為一般的原則，當下列情形之一發(fā)生時應進行清洗。 2.1 在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的 10 ～ 15% 。 2.2 為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了 10 ～ 15% 。 2.3 產(chǎn)品水質(zhì)降低 10 ～ 15% 。鹽透過率增加 10 ～ 15% 。 2.4 使用壓力增加 10 ～ 15% 2.5 RO 各段間的壓差增加明顯 （ 也許沒有儀表來監(jiān)測這一跡象 ） 。 3. 常見污染物及其去除方法： 3.1 碳酸鈣垢 在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導致給水 PH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來，應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水 PH 至 3.0 ～ 5.0 之間運行 1 ～ 2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。 注：應確保任何清洗液的 PH 不要低于 2.0 ，盃則可能會 RO 膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，zui高的 PH 不應高于 11.0 。查使用氨水來提高 PH ，使用硫酸或鹽酸來降低 PH 值。 3.2 硫酸鈣垢 清洗液 2（ 參見表面化 ） 是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的*方法。 3.3 金屬氧化物垢 可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 （ 例如氫氧化鐵 ） 。 3.4 硅垢 對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/span> 3.5 有機沉積物 有機沉積物 （ 例如微生物粘泥或霉斑 ） 可以使用清洗液 3 去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)海德能公司認可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，采用消毒處理，請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。 3.6 清洗液 清洗反滲透膜元件時建議采用表 2 所列的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇*的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出*的清洗方法提供依據(jù)。 對于無機污染物建議使用清洗液 1 。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液 2 。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液 3 。所有清洗可以在zui高溫度為華氏 104 度 （ 攝氏 40℃） 下清洗 60 分鐘，所需用品量以每 100 加侖 （379 升 ） 中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。 | 
