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手動磁控濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備

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參   考   價: 238000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號MS-D450

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

聯(lián)系方式:于磊查看聯(lián)系方式

更新時間:2025-06-03 14:39:31瀏覽次數(shù):245次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:71條

所在地區(qū):北京北京市

聯(lián)系人:于磊 (銷售部經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn) 磁控靶 三靶
手動 樣品臺 升降旋轉(zhuǎn)加熱
極限真空度 10-5Pa    

手動磁控濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備具備以下幾個優(yōu)點(diǎn):1、目前高校包括研究所的實(shí)驗室面積都比較緊張,所以此款小型磁控濺射鍍膜機(jī)緊湊的設(shè)計更為合適;2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺。

詳細(xì)介紹

  手動磁控濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備具備以下幾個優(yōu)點(diǎn):

  1、目前高校包括研究所的實(shí)驗室面積都比較緊張,所以此款小型磁控濺射鍍膜機(jī)緊湊的設(shè)計更為合適;

  2、配置3個3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);

  3、配置1個4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺;

  4、配置離子活化裝置;

  5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;

  6、配置腔室烘烤加熱裝置;

  7、配置高真空獲得及測量裝置;

  8、配置膜厚實(shí)時監(jiān)控測量裝置;

  9、配置3路質(zhì)量流量計充氣系統(tǒng)。

  1.設(shè)備簡介

  小型磁控濺射鍍膜儀,主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作,對實(shí)驗室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)的配置,從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇,可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置,比較靈活;標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶,一臺500W直流濺射電源,主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。

  2.設(shè)備主要優(yōu)勢

  2.1實(shí)用性:設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實(shí)驗室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

  2.2方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;

  2.3高性價比:設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國內(nèi)品牌,以國產(chǎn)設(shè)備的價格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置,從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;

  2.4安全性:獨(dú)立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能,保證了設(shè)備的使用安全性能;

  3.主要技術(shù)參數(shù)

  3.1 腔室尺寸:Ф246×228mm,1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì),氬弧焊接;

  3.2 樣品臺尺寸:Ф75mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào);

  3.3 真空系統(tǒng):機(jī)械泵(TRP-12,3L/s)+國產(chǎn)分子泵(可選進(jìn)口分子泵);GDC-25b電磁擋板閥,DN25mm 限流閥;

  3.4 極限真空:8.0×10-4Pa;

  3.5 真空抽速:大氣~8×10-4Pa ≤ 60min;

  3.6 真空測量:全量程復(fù)合真空計,測量范圍:105Pa~10-5Pa;

  3.7 磁控靶:Φ2英寸2只(含靶擋板),兼容直流電源和射頻電源;

  3.8 濺射電源:直流和射頻可選;

  3.9 質(zhì)量流量計:20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套;

  3.10控制方式:PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng),具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能;

  3.11設(shè)備外形:L60cm×W60cm×H96cm機(jī)電一體化機(jī)架,預(yù)留1個KF40法蘭接口;

  3.12 設(shè)備供電總功率≤2KW,220V,單相三線制(一火一零一地);

  3.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng):水壓0.2~0.4MPa,水溫10~25℃,給設(shè)備相關(guān)需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水

手動磁控濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備




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