一體化污水處理設(shè)備工藝流程介紹

但C1-的選擇性小于s0%和F廠，而活性氧化鋁中可交換離子也是S0，因此Cl-和SO濃度對(duì)活性氧化鋁的除氟能力無影響。在活性氧化鋁除氟過程中CIF略有減少，而SO在水中的含量有明顯增加，原因是水中的F交換了活性氧化鋁上的SO。
6.6.4除氟處理工藝
除氟設(shè)備分重力式和壓力式，根據(jù)實(shí)際情況采用；根據(jù)原水含氟量的大小，分為單級(jí)吸附交換除氟和二級(jí)串聯(lián)吸附交換除氟。
1.常用除氟工藝
常用的除氟處理工藝流程如圖6-39所示。一般指的是重力式除氟設(shè)備，故設(shè)清水池（調(diào)節(jié)用水量）和二級(jí)提升。在原水含氟量≤4mg/L時(shí)采用圖6-39的一級(jí)除氟，當(dāng)含氟量>4mg/L時(shí)可二臺(tái)除氟設(shè)備串聯(lián)。圖中設(shè)空氣分離器目的為：去除水中的CO2（即2HCO5→2CO2個(gè)+H2O)。在進(jìn)入除氟設(shè)備前HCO，去除不使HCO5與ReSO,吸附交換，使吸附交換容量充分地用于除氟上，提高R2SO，的利用率同時(shí)節(jié)省再生劑用量和延長(zhǎng)工作周期。含氟原水——室氣分離器’|除氟設(shè)備——清水池—二級(jí)——用水點(diǎn)
圖6-39常用除氟工藝流程示意圖
除氟水的pH值要求在6~7，如果需要降低原水的pH值，則在除氟設(shè)備之前實(shí)行降低pH值措施，圖6-39中虛線箭頭所示。
2.一級(jí)壓力除氟工藝
一級(jí)（單臺(tái)）壓力式除氟設(shè)備的工藝如圖6-40所示。是否需要實(shí)行降低pH值措施視具體情況而定。如進(jìn)入壓力除氟設(shè)備前需去除CO2，則空氣分離器可采用脫氣塔（脫CO2），塔下設(shè)水池，水泵從水池抽水進(jìn)入壓力式除氟設(shè)備。壓力式除氟系統(tǒng)，其除氟后的出水具有一定壓力，這部分能量（壓力）應(yīng)盡可能利一用水點(diǎn)降低pH值水塔
圖6-40一級(jí)（單臺(tái)）壓力式除氟工藝流程示意圖
含氮原水—一級(jí)一仁縱除氛設(shè)備一仁級(jí)你氨試司一量水一仁級(jí)承站一至用水點(diǎn)圖6-41二級(jí)串聯(lián)壓力式除氟設(shè)備工藝流程示意圖一體化污水處理設(shè)備工藝流程介紹
4.再生工藝
再生系統(tǒng)的工藝流程如圖6-42所示。除氟設(shè)備（濾池）達(dá)到飽和后，要使RF還原為R2SO，，即用Ale（SO,）a溶液對(duì)RF進(jìn)行再生。再生前先用原水對(duì)除氟濾池進(jìn)行反沖洗，反沖洗強(qiáng)度視濾料粒徑的大小而有所不同，一般采用12~16L/（s·m2），沖洗時(shí)間10~15min，濾層膨脹率為30%~50%。
然后把設(shè)備（濾池）內(nèi)的反沖洗水放完，進(jìn)行再生。再生可分為以下兩種情況：
|低濃度溶液池|溶藥池|高濃度（2%）溶液池|除氟濾池|排至下水道|原水（初反沖洗）|反沖洗泵|除氟水（終清洗）

圖6-42循環(huán)再生系統(tǒng)示意圖
（1）循環(huán)再生
循環(huán)再生是指先把上一次濃溶液再生后儲(chǔ)在低溶液池中的再生液對(duì)除氟濾料進(jìn)行初步
（次）再生，再生液自上而下流過濾層。再生濾速1~2.5m/h，再生時(shí)間2~3h，直到低
容液池中的再生液全部用完，再生后的廢液排入下水道或另行處理。然后用配制好的濃度
用?？煞譃槿N情況：*種是用水量和用水壓力均比較均衡，無多大變化，則除水可
直接送至用水點(diǎn)