uv光解除臭設(shè)備原理：
1.本產(chǎn)品利用特制的高能臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S/VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的結(jié)合物，如CO2、H2O等。
2.uv光解除臭設(shè)備利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。
uv光解除臭設(shè)備適用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
uv光解除臭設(shè)備特點：
1.除惡臭：能去除揮發(fā)性有機物（VOC），無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味。
2.無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管和排風動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應(yīng)。
3.適應(yīng)性強：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
4.運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需做定期檢查，本設(shè)備能耗低。
?。?設(shè)備占地面積小，自重輕，適合于布置緊湊，場地狹小等特殊條件。進口材料制造，防火、防爆、防腐蝕。
?。?無需預(yù)處理。
