CT200N氧化膜測(cè)厚儀（CT200拓展型）
CT200N氧化膜測(cè)厚儀（CT200拓展型） 產(chǎn)品概述：
CT200升級(jí)版在開發(fā)過程中，增強(qiáng)了數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)功能，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)采用回環(huán)覆蓋方式，避免了新用戶使用時(shí)出現(xiàn)存儲(chǔ)器滿的異常。采用了磁性(CT200F)和渦流(CT200N)兩種測(cè)厚方法，即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度
CT200N氧化膜測(cè)厚儀（CT200拓展型） 功能特點(diǎn)●更加方便的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、增加存儲(chǔ)量
●任意界面測(cè)量
●新穎的界面布局
●簡(jiǎn)潔、經(jīng)濟(jì)、實(shí)用
●增加了渦流功能測(cè)厚，實(shí)現(xiàn)一機(jī)兩用
●設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、*大值（MAX）、*小值(MIN)、測(cè)試次數(shù)（NO.）
標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）
●具有存貯功能：可存貯500個(gè)測(cè)量值
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CT200N氧化膜測(cè)厚儀（CT200拓展型）技術(shù)參數(shù)：
測(cè)頭類型 | CT200F | CT200N | |
工作原理 | 磁感應(yīng) | 電渦流 | |
測(cè)量范圍 | 0~1250μm | 0~1250μm，其中：銅上鍍鉻（0~40μm） | |
分辨力 | 0.1μm（0~50μm），1微米（＞50μm） | ||
測(cè)量誤差 | 3%H＋1μm（H為測(cè)量范圍） | ||
示值誤差 | 一點(diǎn)校準(zhǔn)（μm） | ±（3%H+1） | ±（3%H+1） |
測(cè)試條件 | *小曲率半徑（μm） | 凸1.5 | 凸3 |
*小面積的直徑（μm） | Φ7 | Φ5 | |
基體臨界厚度（㎜） | 0.5 | 0.3 | |
工作電壓 | 3*1.5V | ||
外形尺寸 | 155㎜*68㎜*27㎜ | ||
整機(jī)重量 | 230g | ||
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 主機(jī)、探頭（F或N）、基體（鐵或鋁）、標(biāo)準(zhǔn)片 | ||
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CT200N氧化膜測(cè)厚儀（CT200拓展型）標(biāo)準(zhǔn)配置：
主機(jī)、探頭（F或N）、基體（鐵或鋁）、標(biāo)準(zhǔn)片、電池、隨機(jī)文件、儀器箱
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