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超純水設(shè)備去離子設(shè)備 反滲透設(shè)備

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更新時間:2022-12-19 09:50:48瀏覽次數(shù):488

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產(chǎn)品簡介

電子超純水設(shè)備去離子設(shè)備是采用RO+EDI技術(shù)設(shè)計,關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進口產(chǎn)品,工藝*,質(zhì)量可靠,可擴展性強,結(jié)構(gòu)合理占地小,水利用率高,能耗低,全自動化運行,操作維護簡單。

詳細介紹

  電子超純水設(shè)備去離子設(shè)備是采用RO+EDI技術(shù)設(shè)計,關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進口產(chǎn)品,工藝*,質(zhì)量可靠,可擴展性強,結(jié)構(gòu)合理占地小,水利用率高,能耗低,全自動化運行,操作維護簡單。根據(jù)用戶要求設(shè)計制造反滲透系統(tǒng),一般產(chǎn)水下限0.25m3/hr,上限不限,水回收率一般可達75%以上,脫鹽率>98%。產(chǎn)水量隨進水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。我公司采用的現(xiàn)代超純水制造工業(yè)
超純水去離子設(shè)備典型工藝流程為:
1、預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點
2、預(yù)處理-一級反滲透-二級反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
3、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
4、預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點水質(zhì)符合美國ASTM標準,電子部超純水水質(zhì)標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

超純水設(shè)備去離子設(shè)備電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗  電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液  顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn) 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水    液晶顯示器的生產(chǎn) 屏面需用純水清洗和用純水配液  晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中超純水去離子設(shè)備清洗硅片。
 

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