更進一步了解離子除臭凈化設(shè)備
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離子除臭凈化設(shè)備，首先要了解離子除臭凈化設(shè)備的原理及適用范圍，根據(jù)自身情況選擇適合的機型?？梢灾苯勇?lián)系我們，我們會協(xié)助您選擇設(shè)計及施工。保證等離子除臭裝置產(chǎn)品的安全使用。
低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以也稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。
該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于石油化工、垃圾焚燒、制藥、食品、污水處理廠、涂料、皮革加工、感光材料、汽車制造等諸多行業(yè)有機廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。
等離子體中電子的溫度遠高于氣體溫度。因為外加能量直接作用于電子而不是作用于氣體分子，因此電子溫度可達1-10 eV，而氣體溫度可維持室溫。低溫等離子體可在大氣壓和低壓下產(chǎn)生。工業(yè)應(yīng)用中主要是在大氣壓條件下，離子除臭凈化設(shè)備施加高壓電場產(chǎn)生低溫等離子體。
等離子體空間富集了大量極活潑的高活性物種，如離子、電子、激發(fā)態(tài)的原子、分子及自由基等。這些高活性物種在普通的熱化學反應(yīng)中不易得到，但在等離子體中可*地產(chǎn)生。對于有機物在等離子體中的氧化降解機理，反應(yīng)主要有以下幾個過程：
(1)高能電子的作用下強氧化性自由基O、OH、HO2的產(chǎn)生;
(2)有機物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成小碎片基團或原子;
(3)O、OH、HO2與激發(fā)原子有機物分子、破碎的分子基團、自由基等一系列自由基反應(yīng)。這些活性物種(特別是高能電子)含有巨大的能量，可以引發(fā)位于等離子體附近的催化劑，并可降低反應(yīng)的活化能。同時，催化劑還可選擇性地與等離子體產(chǎn)生的副產(chǎn)物反應(yīng)，得到無污染的物質(zhì)，離子除臭凈化設(shè)備將有機物分子氧化降解為CO、CO2和H2O，從而*地去除異味。
