光氧催化設(shè)備主要工藝段技術(shù)原理：

      ，紫外線是由電磁波組成，其本身所帶有的能量與波長直接有關(guān)，波長越短，能量越大。通過采用D波段內(nèi)的真空紫外線（波長范圍170~184.9nm），照射有機氣體或惡臭氣體分子，當這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使有機氣體或惡臭氣體分子內(nèi)部發(fā)生裂解，利用   紫外線光束可裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，   達到脫臭及殺菌的目的。

UV光解廢氣處理設(shè)備凈化效果

    采用UV光解工藝對單一的有機廢氣物質(zhì)或惡臭氣體物質(zhì)嚴格控制進氣濃度、氣量及其他條件時，UV光解設(shè)備功率充足的情況下，測得UV光解凈化效率均可達到99%以上。但實際運用過程中，由于受到各種因素或者條件的影響，如廢氣成分復(fù)雜，廢氣濃度不穩(wěn)定或者不能達到UV光解   適中的范圍（濃度過高或過低均會影響其凈化去除率），風(fēng)量、氣壓、溫度、濕度等環(huán)境條件不穩(wěn)定或者達不到UV光解凈化的要求，廢氣預(yù)處理做的不夠理想，后續(xù)排放管道沒有留夠充足的氧化反應(yīng)管道等等，導(dǎo)致UV光解的凈化效率參差不齊，差異很大，甚至在滿足所有外在條件的基礎(chǔ)上，處理不同成分的廢氣其凈化效率也有差別。所以很難單純的去界定一套UV光解凈化設(shè)備對廢氣的凈化去除率，我們只能說盡量的去調(diào)整影響UV光解凈化設(shè)備凈化率的各種因素，盡量的去提高UV光解凈化工藝的凈化效率。在各種因素都比較適宜的條件下，UV光解凈化系統(tǒng)在實際運用中是可以達到90%以上的，甚至某些成分的廢氣其凈化效率可以達到95%以上甚至   高。