電子元器件作為核心部件，是戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點領域之一，也是支撐新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重點基礎產(chǎn)品。近年來，電子元器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展勢頭迅猛，產(chǎn)業(yè)規(guī)模與質量效益同步實現(xiàn)，為經(jīng)濟發(fā)展提供了強勁動力。

　　電子元器件產(chǎn)業(yè)鏈的上游是原材料，主要包括光電材料、半導體材料、磁性材料等。在半導體生產(chǎn)中，超純水用于晶圓沖洗、化學稀釋、化工機械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕等多種場合，超純水的質量直接關系到半導體的良品率。萊特萊德EDI超純水設備采用靶向離子交換系統(tǒng)去除超純水中的硼離子，同時連續(xù)穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水。目前廣泛應用于晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍、試劑稀釋、氟化工等領域。

　　超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水設備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件，系統(tǒng)設備通常由預處理部分、反滲透主機部分、后處理部分共同組成。EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，具有非常高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益。精混床經(jīng)過技術升級后，無需任何操作即可穩(wěn)定運行，出水水質可以滿足芯片生產(chǎn)用水的相關標準，降低企業(yè)的生產(chǎn)成本。

　　萊特萊德EDI超純水設備產(chǎn)出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，符合半導體元器件生產(chǎn)用水需求。萊特萊德超純水設備可以連續(xù)穩(wěn)定地制備品質優(yōu)良的超純水，助力半導體企業(yè)的發(fā)展，從而幫助企業(yè)提高市場競爭力。