由于集成電路的結(jié)構(gòu)通常非常精細(xì)，因此需要用無(wú)雜質(zhì)的超純水進(jìn)行清洗。傳統(tǒng)的超純水制取方法主要有：蒸餾法和離子交換法等。蒸餾法要求設(shè)備嚴(yán)密，產(chǎn)量低、能耗比較高。離子交換法再生失效的離子交換樹(shù)脂需要大量酸堿溶液和大量的清洗水，勞動(dòng)強(qiáng)度大。隨著電鍍行業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)純水的水質(zhì)要求越來(lái)越高，這些傳統(tǒng)方法不適合單獨(dú)使用來(lái)生產(chǎn)純度很高的超純水。

　　萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會(huì)因?yàn)闃?shù)脂再生而停止運(yùn)行，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)靠緊，其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠(chǎng)前均需進(jìn)行試壓，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡(jiǎn)單。芯片超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了水處理設(shè)備的出水水質(zhì)。

　　超純水設(shè)備在設(shè)計(jì)上采用成熟、可靠、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達(dá)到18 MΩ.CM以上。設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時(shí)，EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益。

　　隨著國(guó)家集成電路扶持政策的漸次落地，再加上智能手機(jī)芯片國(guó)產(chǎn)化替代加速，國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)也有望迎來(lái)“黃金十年"。