臺州市二氧化氯發(fā)生器

工藝流程
2NaClO3+4HCl=2ClO2+Cl2+2NaCl + 2H2O
    采用鹽酸與氯酸鈉定量注入到反應釜內，反應釜在加熱的情況下發(fā)生化學反應生成二氧化氯與CL2，再通過水射器吸入投加到消毒水體中。
規(guī)格分類
    二氧化氯消毒劑發(fā)生器的規(guī)格按設備的二氧化氯產量(g/h)區(qū)分確定。二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器的規(guī)格按設備的效氯產量(g/h)區(qū)分確定。

基本要求

    1)、基本型二氧化氯發(fā)生器的設計及電器設計應符合GB 19517和GB 5083或相應的規(guī)準和組織的規(guī)準要求。

    2)、基本型二氧化氯發(fā)生器采用的PVC材料應符合GB/T 4219.1和QB/T 3802或相應的規(guī)準和組織的規(guī)準要求。

    3)、基本型二氧化氯發(fā)生器的應符合JB/T 2932或相應的規(guī)準和組織的規(guī)準的規(guī)定。頒發(fā)的基本型二氧化氯二氧化氯發(fā)生器許可批件

    4)、基本型二氧化氯發(fā)生器的反應系統(tǒng)應設置安防爆裝置。

    5)、各管道應泄漏現象。

    6)、原料液輸送應連動裝置。

    7)、發(fā)生器運行時所用原料應符合相應規(guī)準的規(guī)定。 

范圍

   1、各種場合下的生活、飲用、自來水的消毒;

   2、餐廳、賓館、庭、餐具衛(wèi)生設施的滅菌消毒和空氣環(huán)境消毒等。

    3、食品、飲料、發(fā)酵工業(yè)的設備、管道、容器的滅菌消毒。

    4、乳品、屠宰場的管道、設施及環(huán)境的滅菌處理;

    5、污水的滅菌消毒處理;

    6、游泳池、工業(yè)循環(huán)水、浴池水的滅菌消毒;

    7、、衛(wèi)生、臨床器械的消毒、滅菌、除臭的防霉處理;

    8、庭、賓館、飯店、水果蔬菜、魚肉等食品的保鮮及終淋洗消毒;

    9、配置各種口腔消毒液、除臭劑及創(chuàng)口清洗液等。

    10、中的滅菌及脫臭;

    11、面粉與各種食品的漂白劑;

    12、造紙、印染行業(yè)的漂白藥劑;

    13、電鍍含氰廢水的破氰處理、印染廢水的脫色處理，工業(yè)徨冷卻水的除藻滅菌處理。

二氧化氯發(fā)生器在工業(yè)循環(huán)水滅藻中的
    目前，循環(huán)冷卻水系統(tǒng)傾向于采用堿性機磷系配方作為水質穩(wěn)定劑，這就為菌藻的繁殖提供了營養(yǎng)，細菌、真菌、藻類、原生動物等微生物利用水中的營養(yǎng)物質大量繁殖。以這些微生物為主體，混雜泥砂、機物和塵土等，形成生物粘泥附著與堆積，因而產生粘泥故障，引起設備、管道的局部腐蝕、堵塞等不良問題，降熱器的熱交效率，甚至使管道穿孔，設備損壞。因此，必須在循環(huán)冷卻水中投加殺生劑，以控制微生物的生長。在許多殊的情況下，二氧化氯更優(yōu)點、更效、更。例如：當冷卻水具較高的pH值、含氮量和機物含量時，二氧化氯的優(yōu)點就顯得尤為突出。因為二氧化氯的殺菌效果受環(huán)境pH值的影響較小，它可在較寬的pH值范圍內保持穩(wěn)定的殺菌。二氧化氯不會與氨反應生成殺菌效力的氯胺，而且它與機物反應性，不易被水中的機物消耗，不會形成氨化機物。另外，二氧化氯的殺菌速度快，在水中的衰敗期長，藥效，且二氧化氯不與機磷等水質穩(wěn)定劑發(fā)生沉淀反應，對水質穩(wěn)定劑的緩蝕阻垢沒影響。二氧化氯對金屬設備腐蝕實驗表明：70~110 mg/L的二氧化氯對不銹鋼和銅基本腐蝕，20~70mg/L的二氧化氯對碳鋼基本腐蝕，所以二氧化氯在循環(huán)水中的殺菌濃度于80mg/L，不會對設備造成腐蝕。

產品性能：

     1. 采用化學法無負壓曝氣工藝，結構，，故障率，；

    2. 采用主機、料罐整式設計，（占地面積0.5－1.2平方米）、重量輕、、維修方便，安裝容易，。

    3. 供料系統(tǒng)采用滴定閥，顯示直觀，加藥量可手動調節(jié)。

    4. 溫控系統(tǒng)采用自動恒溫控制，具缺水、短路保護及溫報警等功能。

    5. 電氣元件較少，易損件，故障率。

    6. 投加系統(tǒng)利用壓力水，可實現發(fā)生器與動力水的聯(lián)動控制。

    7. 穩(wěn)定型好，。適用于處理規(guī)模小、對自動化要求不高的水處理場合。

性能特點
    A、工藝可以采用無負壓曝氣、正壓注入技術來二氧化氯消毒液
    B、設備的核心反應器采用的復合材料制做，設備。反應器設計為多級塔式結構分級加熱，主反應器的反應溫達70℃，即了CLO2 的高含量，又提高了原料的轉化 率。
    C、自動控制系統(tǒng)具欠壓、缺料、溫、缺水等自動報警和保護功能（自動停機）
    D、原料輸送采用德、日本、美、意大利等的計量泵，可靠。
    E、設備的自動控制系統(tǒng)，LED顯示屏可動態(tài)顯示設備運行的各種工藝參數（溫度、壓力、液位、投加量、出水余二氧化氯及進水流量等），并可進行手動和自動模式的相互切。可接受4-20mA的規(guī)準出余二氧化氯和進水流量信號，實現余二氧化氯和進水流量的在線閉環(huán)控制。同時還可以通過通訊接口實現遠傳通訊功能。

控制要求

    控制系統(tǒng)可根據水質變化自動定比調節(jié)投藥量，并且設缺水停機，藥停機等各種安保護設施?；拘投趸榷趸劝l(fā)生器在電磁流量計的控制下，自動恒定比例加藥，實現自動人控制，并實現數據遠傳，具遠程通訊接口可與DCS計算機通訊。

二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器

    1. 基本型二氧化氯發(fā)生器的效氯產量應不于額定值;

    2. 基本型二氧化氯發(fā)生器產生的消毒劑溶液中，二氧化氯(以效氯計)占總效氯的質量百分數不小于55%;

    3. 主要原料如氯酸鈉、亞氯酸鈉的轉化率不于60%。

    4.基本型二氧化氯發(fā)生器在正常工況下應具備良好的密封性，發(fā)生器在室內使用時(具備良好的通風條件，環(huán)境溫度以5℃~40℃為宜)，室內環(huán)境中CL2濃度應符合HJ/T 30的規(guī)定，其大允許濃度應小于1mg/m。

    5.用于飲用水時，消毒后水中的亞氯酸根、氯酸根等原料殘留物的總量應不大于0.7mg/L。

    6.在正常工況下，基本型二氧化氯發(fā)生器的使用壽命不小于5 年，平均故障工作時間不少于8000h。

保養(yǎng)
    1、保養(yǎng)的時間問題，生活污水處理設備的保養(yǎng)時間是從開始被使用時計算的，在開始被使用以后平均每6個月就要對它進行清理一次，可以達到良好的保養(yǎng)效果。
    2、濾芯的更，濾芯的更要求設備在一年到二年的時候就需要進行一次。
    3、清洗問題，污水處理設備的清洗，可以借助一些清理設備對設備內部進行清洗，定時清洗設備可以增強對設備濾芯的保護。
    4、可以經常用堿性的擦拭設備，堿性能夠中和一些酸性雜質，提高凈水的效果，同時也可以延長設備的使用年限。
    5、定期對某些零件排污，這些零件指的是過濾器、隔離帶等，定期的進行清理可以避免堵塞，污水的暢通。
    6、增加潤滑油，可以提高設備的運行效率，設備的反應靈敏可減少設備發(fā)生摩擦及停頓的幾率，同時也可以增加設備的使用年限。
系統(tǒng)組成
    化學法二氧化氯發(fā)生器，由供料系統(tǒng)、反應系統(tǒng)、安系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)和吸收投加系組成。
分類
    一類為高純二氧化氯消毒劑發(fā)生器，另一類為二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器。顧名思義，純二氧化氯消毒劑發(fā)生器生成物的為二氧化氯，而二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器生成二氧化氯和CL2等混合溶液。
反應原理
一類反應原理：5NaCLO2+4HCL=4CLO2+5NaCL+2H 2O或 2NaCLO3+H2O2+H2SO4=2CLO2+Na2SO4+O2+2H2O
2NaCLO2+NaCLO+2HCL=2CLO2+3NaCL+H2O
二類反應原理：NaCLO3+2HCL=CLO2+1/2CL2+NaCL+H2O
高純硫酸法反應原理：2NaClO3+H2O2+H2SO4→2ClO2+Na2SO4+O2+2H2O
使用原料
一類使用原料：亞氯酸鈉（工業(yè)一級品，含量≥85%）工業(yè)合成鹽酸（濃度≥31%）
或濃硫酸（工業(yè)一級品，濃度83.0±2.0%）氯酸鈉（工業(yè)一級品，含量≥99%）過氧化氫（工業(yè)合格品，含量≥27.5%） 次氯酸鈉 10%
二類使用原料：氯酸鈉（工業(yè)一級品，含量≥99%）工業(yè)合成鹽酸（濃度≥31%）

臺州市二氧化氯發(fā)生器

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裝

    1)、基本型二氧化氯發(fā)生器與配電裝置宜分室放置，房間內應AC220V交流電

    2)、基本型二氧化氯發(fā)生器產生的氫氣應排出室外，其關口應遠離火，操作間照明用安防爆燈，室內應具良好的通風設施。

    3)、基本型二氧化氯發(fā)生器進水口接口，出消毒液接口，外接管路直徑應與之*，消毒液口需裝一止回閥。

    4)、進水管路可用鐵管或塑料管，出藥管路須用聚氯乙烯或ABS塑料管。

    5)、基本型二氧化氯發(fā)生器旁應給水排水設施。

    6)、注意設備接地保護等問題。設備間內應排水設施。且設備間應設簡單地面。

    7)、應大于0.3Mpa的自來水水。