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uv光解催化氧化內(nèi)部結(jié)構(gòu)昆山電子廠廢氣處理

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uv光解催化氧化內(nèi)部結(jié)構(gòu)昆山電子廠廢氣處理風(fēng)機(jī)的匹配
（1）應(yīng)由專業(yè)人員計(jì)算管道、彎徑管、彎頭、沿程阻力。
（2）風(fēng)機(jī)的壓力=管網(wǎng)阻力+設(shè)備阻力+25%的安全系數(shù)
（3）風(fēng)機(jī)的風(fēng)量=凈化器風(fēng)量×1。1
（4）風(fēng)機(jī)安裝在距凈化器出風(fēng)口至少1米處。

詳細(xì)介紹

uv光解催化氧化內(nèi)部結(jié)構(gòu)昆山電子廠廢氣處理。

光解技術(shù)是利用185nm短波波長(zhǎng)紫外光對(duì)廢氣分子進(jìn)行裂解，打斷分子鏈，同時(shí)光解空氣中的水和氧氣，生成羥基自由基、臭氧等高級(jí)氧化劑氧化去除VOCs；光催化氧化技術(shù)是在設(shè)備中添加納米級(jí)活性材料，在紫外光線的作用下，產(chǎn)生更為強(qiáng)烈的催化降解功能。由于作為催化劑的TiO₂價(jià)格低廉，來(lái)源廣泛，對(duì)紫外光吸收率較高，抗光腐蝕穩(wěn)定性和催化活性高，且沒(méi)有毒性，對(duì)很多有機(jī)物有較強(qiáng)的吸附作用，因而成為各類試驗(yàn)研究中zui常用的光催化劑。

光催化反應(yīng)面臨的問(wèn)題主要有催化劑失活、反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)較小、不可預(yù)測(cè)的反應(yīng)機(jī)理等，同時(shí)濕度能抑制光催化速率，尤其是有機(jī)廢氣濃度較大時(shí)，這種影響更為明顯，因此限制了光催化技術(shù)在處理濕度較大的廢氣方面的應(yīng)用。由于納米材料本身對(duì)有機(jī)物具有氧化作用，納米材料與粘結(jié)劑的耐光催化性、載體的催化活性包括失活后的再生問(wèn)題及膜的牢固性仍然是光催化技術(shù)的關(guān)鍵技術(shù)難題。

臭氧與甲苯在自然狀態(tài)下是不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的。臭氧協(xié)同真空紫外光對(duì)甲苯是有降解效果的。254nm的紫外光可以促進(jìn)臭氧產(chǎn)生氧自由基，從而氧化廢氣分子，臭氧在真空紫外條件下與空氣中的水蒸氣可產(chǎn)生羥基自由基，羥基自由基可氧化甲苯。

以風(fēng)量10000 m³/h，甲苯200mg /m³的廢氣為例，要實(shí)現(xiàn)60%以上降解率，所需的光解部分配置在40根（150W雙波段），光催化部分配置在40根（150W單波段紫外燈）光催化網(wǎng)3-4平米，合計(jì)總功率在12KW。未來(lái)不排除通過(guò)優(yōu)化風(fēng)道設(shè)計(jì)、提高燈管、光催化網(wǎng)性能等途徑提高單元降解效率的可能。但以目前的技術(shù)水平，12KW應(yīng)該是目前的基本配置。

在濕度合適條件下，光解配合光催化對(duì)甲苯降解率可以達(dá)到65%以上。如果只有光解，降解率zui高到40%，再增加配置反而降解率下降。如果只有光催化，降解率zui高到15%，只有光解光催化共同進(jìn)行反應(yīng)，才能到65%以上，說(shuō)明光解和光催化有協(xié)同效應(yīng)。

uv光解催化氧化內(nèi)部結(jié)構(gòu)昆山電子廠廢氣處理使用說(shuō)明：
1、凈化器風(fēng)量的選擇
風(fēng)機(jī)風(fēng)量不得大于凈化器處理風(fēng)量120%，如凈化器處量風(fēng)量為6000m³/h，配用風(fēng)機(jī)風(fēng)量應(yīng)在7200m³/h左右。
2、風(fēng)管的配置
凈化器進(jìn)出風(fēng)管同凈化器法蘭尺寸保持一致，變徑長(zhǎng)度位置應(yīng)在法蘭對(duì)角線長(zhǎng)度0。5倍以上。
凈化器與排風(fēng)管道之間的連接必須密封；
3、風(fēng)機(jī)的匹配
（1）應(yīng)由專業(yè)人員計(jì)算管道、彎徑管、彎頭、沿程阻力。
（2）風(fēng)機(jī)的壓力=管網(wǎng)阻力+設(shè)備阻力+25%的安全系數(shù)
（3）風(fēng)機(jī)的風(fēng)量=凈化器風(fēng)量×1。1
（4）風(fēng)機(jī)安裝在距凈化器出風(fēng)口至少1米處。

關(guān)鍵詞：催化劑