英國Quorum/Emitech高真空鍍膜儀K975X是一個多用途系統(tǒng)，它具有靈活性和模塊化擴展功能，以適應(yīng)不同的樣品制備。它可從蒸籃和坩鍋進行碳蒸發(fā)、金屬蒸牟⑶銥裳〗ι涓郊?、黚r /> K975X可應(yīng)用一系列成熟技術(shù)，包括鍍碳及TEM覆形，碳/金屬蒸發(fā)、低角度Shadowing和通過使用雙源蒸發(fā)進行順序涂層，可選的濺射鍍膜附件能適用于各種靶材。
通過使用微處理控制器，更增強了系統(tǒng)的靈活性，用戶很容易附加各種可選件，但是這“缺省”都是經(jīng)過優(yōu)化操作設(shè)計，使得全自動和手動操作均可實現(xiàn)。
抽屜式樣品裝載系統(tǒng)使用戶方便放入各種樣品，鉸鏈式頂蓋結(jié)構(gòu)很容易達到系統(tǒng)其它區(qū)域。
渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部，可方便安裝及更換，它的前級真空為旋轉(zhuǎn)真空泵。整個抽氣過程為全動控制，達到高真空后進行蒸發(fā)。本儀器為臺式，可方便地進行使用控制，使用中的疏忽也不易造成損壞。
K975S半導體晶圓蒸鍍儀
K975S基于K975X，但是它具有特殊的裝載鎖定門，可允許放入8英寸（200mm）晶圓鍍碳，應(yīng)用于FIB。

英國Quorum/Emitech K975X的特點
1、全自動抽真空系統(tǒng)
2、樣品尺寸可達140毫米見方或200毫米直徑
3、“anti-stick”碳棒蒸發(fā)機構(gòu)
4、抽屜式樣品裝載系統(tǒng)
5、可選的蒸鍍類型，具有四種蒸發(fā)設(shè)置
6、約束的或開放o排氣控制
7、可選用各種濺射靶材附件適用于一系列金屬
8、可選膜厚監(jiān)測系統(tǒng)

優(yōu)點
1、容易操作
2、使用靈活
3、可靠的碳蒸發(fā)
4、方便的樣品裝載及卸載
5、靈活的操作，可選擇碳及金屬蒸發(fā)源
6、在排氣過程中可防止樣品損壞
7、系統(tǒng)靈活性強
8、很容易測量金屬或碳沉積膜厚

英國Quorum/Emitech K975X的技術(shù)參數(shù)
儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，帶有鉸鏈式頂蓋。250mm Dia x 300mm H（樣品可達直徑200 mm即8"）
安全鐘罩：聚碳酸酯，維護時工作腔室很容易移開
重量：65Kg
碳槍：高度可調(diào)，傾斜0-20o ，使用直徑6.15mm碳棒
渦輪分子泵：100L/Second為標準配置，可選各種尺寸
真空計范圍茿TM - 1x10-7mbar
工作真空達到時間：15分鐘內(nèi)
操作真空：10-5 mbar量級（可選液氮冷阱）
蒸發(fā)源（脈沖或可變控制）：四種模式可選，低電壓
樣品臺：0-45o可傾斜
旋轉(zhuǎn)樣品臺（可選）：直徑60mm，傾斜0-45o，具有15rpm 到 45rpm可變嵌瓤刂劈br /> Services –Argon（對可選濺射附件） - Nominal 4psi.
真空泵：No. 2 泵(2m3/Hr)，complete with Vacuum Hose& Oil Mist Filter
電源：230V 50/60Hz (包含泵電流為8 Amp)；
115V 50/60Hz (包含泵電流為16 Amp)
注：In Circuits with Current Trips , when using Pulse for
230 v a 16amp minimum for 115 v a 32 amp minimum

可選濺射附件
濺射電流：0到100mA
沉積速率：0到50nm/分（Au）
標準靶：57mm Au（可選Pt, Pt/Pd, Pd, Cr, Ni, Cu, Ag）
定時：0到4分鐘
HT安全互鎖裝置

可選膜厚監(jiān)測系統(tǒng)
可選輝光放電