1.本產(chǎn)品利用的高臭氧UV紫外線光束照射工業(yè)廢氣，裂解惡臭/工業(yè)廢氣如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結構，使或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
2.利用高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-+O＊（游離氧）O+O2→O3（臭氧），臭氧對物具有的氧化作用，對工業(yè)廢氣及其它刺激性異味有的   效果。
3.惡臭/工業(yè)廢氣利用排風設備引入到本凈化設備后，凈化設備運用UV紫外線光束及臭氧對工業(yè)廢氣進行協(xié)同分解氧化反應，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
4.利用UV光束裂解工業(yè)廢氣中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，   達到脫臭及殺滅的目的。
光化學及光催化氧化法是目前   較多的一項   氧化技術。所謂光催化反應，就是在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產(chǎn)生分子激發(fā)態(tài)，然后會發(fā)生化學反應生成新的物質(zhì)，或者變成引發(fā)熱反應的中間化學產(chǎn)物。光化學反應的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉(zhuǎn)化以及光化學轉(zhuǎn)化一直是活躍的   。
光催化氧化技術利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應，使H2O2分解產(chǎn)生羥基自由基的速率加快，物的氧化去除。
技術介紹
光降解通常是指物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物   終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指物分子吸收光能后進一步發(fā)生的化學反應。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導一系列污染的反應。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的污染物   為重要。
應用途徑
利用光化學反應降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過photo-Fenton反應產(chǎn)生·HO使污染物   降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加   量的光敏半導體材料，同時結合   量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化