等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學清洗能力。
電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求
創(chuàng)新設計，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強度，極大提升處理效率和能力
真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設備穩(wěn)定高效運行
樣品處理面積可達125mm（大處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）
4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設置多種實驗參數(shù)
性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障
產(chǎn)品參數(shù):
1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
2. 電極：兩個自適應平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金
3. 電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)
4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz
5. 功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W
6. 氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體
7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，
可顯示設置值與實際值，便于實時控制。
可自由設置等離子功率，通入氣體時間
全手動控制和全自動控制可選
8. 保護裝置：一鍵急停保護按鈕
等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(shù)(標準配置) |
外部尺寸 | 404*640*515mm | |
真空腔尺寸 | 直徑210mm*230mm | 不銹鋼腔體 |
電極尺寸 | 125*125mm | 多空自適應平板電極 |
等離子體發(fā)生器 | RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz | 自適應阻抗匹配電源 |
功率 | 0-200W連續(xù)可調(diào) | 精度1W |
真空計 | 熱電偶真空計 0-1000mT | |
供氣 | 1路氣體 | 6mm國標連接件（軟管） |
控制方式 | 4.3寸觸摸屏 | |
可 選 配 置 |
ALC | 純鋁腔體 | |
RF-300 | 等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz ，0-300W自動阻抗匹配電源 |
可調(diào)電極 | 可調(diào)節(jié)電極間距 | 電極間距20-60mm可調(diào)，改變等離子體場濃度特性 |
CM裝置 | 沉積鍍膜模塊 | 用于改變表面特性： 1. 沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性 2. 沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性 3. 沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果。 |
GP裝置 | 氣體純化裝置 | |
PPU | 粉體處理裝置 | 用于處理微納米級別顆粒 |
| 氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學反應后的氣體 |
| 小型氧氣發(fā)生器 | 用于制備氧氣，可取代氧氣罐 |
| 氣體混合裝置 | 可以根據(jù)可以要求進行混氣設計 |
| 感應耦合模塊 | 感應耦合等離子體裝置 |
| 加熱電極模塊 | 電極可以加熱，室溫~200度可調(diào)。 |
| 光譜儀模塊 | 可以增加光譜儀的接口，檢測等離子體光譜變化 |
| 電極轉(zhuǎn)換模塊 | 可以自由變換電極設計，樣品可以放在射頻電極上，也可以放在地電極上。從而實現(xiàn)不同的處理效果。 |
