電漿清洗機設(shè)備公司：誠峰智造

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APS-500W

型號（Model）

CRF-APS-500W

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

1000W(Max)/13.56MHz

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-2000mm(Option)

有效處理高度（Processing height）

1mm-3mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

工作氣體（Gas）

AR+O2

產(chǎn)品特點：低溫處理過程，處理溫度可< 35℃以下；

內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍：應(yīng)用于FPC&PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理；

等離子體處理可對材料進(jìn)行有效的表面凈化、表面活化、表面粗化、表面刻蝕、表面沉積。 

可有效去除物體表面有機污染物和氧化物。

主要特點：濕洗法清洗，表面一般都會有殘留，而低溫等離子體表面處理能做到超高潔凈度的表面，且低溫等離子體只對材料納米級的表面起作用，不會改變材料原有的特性，在對表面潔凈度要求較高的工藝中，正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。

處理機理：主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；重粒子撞擊固體表面；電子與活性基團與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。

等離子體清洗技術(shù)的特點是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。