產品特點：配置專業(yè)運動控制平臺，PLC+觸摸屏控制方式，采用精準運動模組，操作簡便；

可選配噴頭數量，滿足客戶多元化需求；

配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產品品質和設備的整潔、干凈；
 

應用范圍：

自動On-Line（軸輪式）式AP等離子設備主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

等離子處理系統(tǒng)技術促進了半導體材料和光學工業(yè)生產的快速發(fā)展趨勢，并被普遍使用于精密的機器設備、汽車工業(yè)、新能源技術、航天航空、污染治理等眾多*行業(yè)。等離子處理系統(tǒng)等離子清洗工藝的關鍵是低溫等離子體的運用，低溫等離子體關鍵借助高溫、高頻率、高能等外部條件造成，是一種氣體狀物質，具備中性化、高能、電離氣體。低溫等離子體的動能約為幾十電子伏特，在其中帶有離子、電子、自由基和其它特異活性顆粒，及其紫外線等物質，這種顆粒便于與污染物質分子結構反應在材料外表上，使之分離出來，因而可被清理。因為低溫等離子體比高能射線的能量低得多，因此這個辦法只涉及到原材料的表層，不容易影響到材料的板材特性。

自動式等離子設備是一種干式加工工藝，選用電催化反應，能提供低溫環(huán)境，另外能排除化學水處理過程中形成的有害物及廢水，安全可靠，有益于環(huán)境保護。等離子體清洗融合了等離子體物理、等離子體化學和材料表面相反映，可高效消除材料表層殘留的有機物空氣污染物，確保其不會受到表層和本身特點不受影響，現階段已取代傳統(tǒng)式濕式清理的替換方式。

自動式等離子設備技術主要是運用等離子體功效作用于材料的表層，造成一系列物理學、化學反應，運用帶有的特異活性顆粒和高能射線，與表層有機化學空氣污染物分子結構反映、撞擊，產生小分子揮發(fā)性物質，從表層除去，做到清潔的效果。由此可見，等離子清理技術具備工序簡易、高效率環(huán)保節(jié)能、環(huán)保無污染等優(yōu)勢。

依據不一樣的反應類型，自動式等離子設備可分成兩類：等離子體物理學清洗，運用特異活性顆粒和高能射線轟擊分離出來污染物；等離子體化學處理，運用活性顆粒和殘渣分子反應分離出來污染物。

與傳統(tǒng)的的溶液清理不一樣，等離子體借助其包含的較高能化學物質的“活性功效”來完成對材質表層的清理，清理實際，屬于剝離式清理。其清除效果具體表現在以下幾個方面：

可解決多種多樣材料，對清理目標要求較低，因而非常適用不耐高溫的材料和溶劑基底材料；

清理后不用干躁或別的工藝流程，無廢水造成，工作中氣體排污無毒性，環(huán)境保護安全性；

實際操作簡易，易于控制，真空清洗機對真空值規(guī)定不高，也可選用大氣式等離子體清理加工工藝，另外可以防止采用很多的溶劑，因而成本費較低。

自動式等離子設備分不分待處理目標的材質類型，對半導體材料、金屬材料和大部分高聚物均有有效的處理效果，并能保持總體、局部分和繁雜構造的清理。該清洗過程可完成自動化、智能化，可安裝高精密控制系統(tǒng)，精準控制時間。此外，等離子清理技術性因其使用簡易、高精度、可預測性強等特點而被普遍使用于電子電器、材料的外表改性材料及活性等領域。