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等離子清洗機(jī)在去除晶圓光刻膠方面的具體使用：等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)，不僅能*清除光刻膠等有機(jī)物，還能活化加粗晶圓表面，提高晶圓表面的浸潤性，使晶圓表面更加具有粘接力。晶圓光刻蝕膠等離子清洗機(jī)清洗過程氣固相干式反應(yīng)，不消耗水資源，不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑，這使得等離子清洗機(jī)整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝。此外，等離子清洗機(jī)解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應(yīng)不準(zhǔn)確、清洗不*、易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。不需要有機(jī)溶劑，對(duì)環(huán)境也沒有污染，屬于低成本的綠色清洗方式
等離子清洗機(jī)（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場(chǎng)合，通過等離子清洗機(jī)的表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂.
等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于光電、電子、聚合物科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微流體力學(xué)等領(lǐng)域。例如：準(zhǔn)確清洗小零件和微零件；涂膠前激活塑料零件；腐蝕和去除聚四氟乙烯、光刻膠等各種材料；以及疏水和親水涂層。減摩涂層等零件。等離子清洗機(jī)還可以處理金屬。半導(dǎo)體。氧化物和大多數(shù)聚合物材料；可以精細(xì)清洗整體、局部和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)；等離子體清洗過程易于控制、重復(fù)和自動(dòng)化。
作為干法清洗的等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng)，一致性好，不僅*去除光刻膠有機(jī)物，而且還活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性，等離子清洗機(jī)的處理有以下優(yōu)點(diǎn)：獲得滿意的剖面，鉆孔小，選對(duì)表面和電路的損傷小，清潔、經(jīng)濟(jì)、安全。擇比大，刻蝕均勻性好重復(fù)性高。處理過程中不會(huì)引入污染，潔凈度高。
